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Клапаны для атомно-слоевого осаждения (ALD)

Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD) Swagelok®

Las válvulas Swagelok de ultra alta pureza para deposición de capas atómicas (ALD) ofrecen la vida útil ultra alta, la alta velocidad de actuación, los caudales, la inmersión térmica y la extrema limpieza necesarias para permitir una dosificación precisa en aplicaciones de fabricación avanzada de semiconductores.

Solicite más información

Nuestras válvulas ALD de alto rendimiento son un ejemplo clave de cómo Swagelok ha demostrado durante mucho tiempo su liderazgo técnico en la industria de fabricación de semiconductores. Desde que introdujo al mundo la tecnología de las válvulas ALD, Swagelok ha trabajado estrechamente con los clientes de la industria del semiconductor para entender sus necesidades, y luego crear válvulas ALD que ofrecen los niveles extremos de precisión, consistencia, limpieza y alto ciclo de vida útil necesarios para seguir el rápido ritmo de innovación del mercado. Nuestras válvulas de ultra alta pureza ALD se caracterizan por:

  • Ciclo de vida ultra-alto con actuación de alta velocidad
  • Coeficientes de caudal que van de 0,27 a 1,7
  • Inmersión total hasta 200°C (392°F) con actuadores térmicos
  • Idoneidad para aplicaciones de ultra alta pureza con cuerpos de válvulas estándar de acero inoxidable VIM-VAR 316L
  • Conexiones finales para sistemas de montaje modular en superficie, soldadura de tubo a tope y Swagelok VCR®
  • Opción de detección de posición del actuador electrónica u óptica

Catálogos de Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD)

Encuentre información detallada sobre los productos, incluidos los materiales de construcción, los valores nominales de presión y temperatura, las opciones y los accesorios.

Сборка клапана Swagelok ALD20 сверхвысокой степени чистоты в чистом помещении для применения в полупроводниковой отрасли

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