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原子层沉积 (ALD) 阀

Vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok®

Les vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) ultra-haute pureté Swagelok offrent un nombre de cycles ultra-élevé, un actionnement à grande vitesse, des débits, une immersibilité thermique et une propreté extrême, nécessaires pour permettre un dosage précis dans les applications de fabrication de semi-conducteurs avancées.

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Nos vannes ALD haute performance illustrent parfaitement la manière dont Swagelok a longtemps fait preuve de leadership technique réactif dans l’industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Depuis l’introduction au monde de la technologie des vannes ALD, Swagelok a travaillé en étroite collaboration avec les clients de l’industrie des semi-conducteurs pour comprendre leurs besoins, puis créer des vannes ALD qui offrent les niveaux extrêmes de précision, de constance, de propreté et de nombre de cycles élevé nécessaires pour suivre le rythme rapide de l’innovation sur le marché. Les caractéristiques de nos vannes ALD ultra-haute pureté sont les suivantes :

  • Un nombre de cycle ultra-élevé avec un actionnement ultra-rapide
  • Coefficients de débit de 0,27 à 1,7
  • Entièrement immersibles jusqu’à 200 °C (392 °F) avec actionneurs thermiques
  • Compatibles avec les applications à ultra-haute pureté grâce à un corps en acier inoxydable 316L VIM-VAR
  • Montage modulaire en surface, tube à souder bout à bout et raccords d’extrémité VCR® Swagelok
  • Dispositif électronique ou optique de détection de la position de l’actionneur proposé en option

Catalogues des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)

Trouver des informations détaillées sur nos produits – matériaux de fabrication, pressions et températures nominales, options, accessoires, etc.

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