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원자층 증착(ALD) 밸브

世伟洛克®原子层沉积 (ALD) 阀

世伟洛克超高纯原子层沉积 (ALD) 阀具有实现先进半导体制造应用中精确定量所需的超高循环寿命、快速启动、流量、热浸没和高洁净度

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我们的高性能 ALD 阀是世伟洛克长期以来在半导体制造业中显示出迅速积极的技术领导力的一个重要例子。ALD 阀技术问世以来,世伟洛克与半导体行业的客户密切合作,了解他们的需求,然后打造出 ALD 阀,提供必要的、高水平的精度、一致性、清洁度和高循环寿命,以跟上市场的快速创新步伐。我们的 ALD 超高纯阀具有以下特点:

  • 快速开关下的超高循环寿命
  • 流量系数从 0.27 至 1.7
  • 使用耐热执行机构时,可在 392°F (200°C) 下完全浸入
  • 适合于采用标准 316L VIM-VAR 不锈钢阀体的超高纯应用
  • 模块化表面安装、卡套管对焊和世伟洛克 VCR® 端接
  • 电子或光学执行机构位置传感选购件

原子层沉积 (ALD) 阀目录

查找详细的产品信息,包括结构材料、额定压力和温度、选购件及附件。

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