Клапаны Swagelok® для атомно-слоевого осаждения (ALD)
Клапаны Swagelok сверхвысокой чистоты для атомно-слоевого осаждения (ALD) обеспечивают сверхвысокий циклический срок службы, высокую скорость срабатывания, уровни расхода, термопогружение и исключительную чистоту, необходимые для прецизионного дозирования и максимального увеличения выхода годных кристаллов в современном полупроводниковом производстве.
Запросить информацию о клапанах ALDПознакомив мир с клапанами ALD, мы продолжаем тесно сотрудничать с изготовителями полупроводников с целью дальнейшей модернизации своих устройств, которые обеспечат высочайшие уровни точности, единообразия, чистоты и длительный срок службы, необходимые для соответствия стремительным темпам внедрения инноваций в отрасли. ALD-клапаны Swagelok® повышают эффективность производства микросхем и устраняют трудности, которые часто связаны с процессами атомно-слоевого осаждения.
Наши клапаны сверхвысокой степени чистоты для атомно-слоевого осаждения (ALD) обеспечивают:
- Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания
- Cv в диапазоне от 0,27 до 1,7
- Указанные модели обеспечивают устойчивую работу вплоть до 200°С (392°F)
- Вариант исполнения с электронным или оптическим датчиком положения привода
- Применение в условиях сверхвысокой чистоты
- Модульное торцевое соединение для монтажа на поверхность, торцевые соединения под приварку встык и VCR®
ALD-Ventile – Kategorien
Ultrahochreine Membranventile - Serien ALD3 und ALD6
Die ALD3- und ALD6-Membranventile bieten eine extrem hohe Lebensdauer, schnelle Betätigung und hohe Leistung bei der Atomlagenabscheidung.
Ultrahochreine Membranventile für Anwendungen mit hohem Durchfluss, Serie ALD20
Das fortschrittliche, ultrahochreine ALD20-Ventil bietet 2–3 mal höhere Durchflussraten als andere ALD-Ventile.
Ultrahochreine Membranventile, Serie ALD7
Das ALD7-Membranventil für ultrahochreine Anwendungen bietet präzise und konsistente Ergebnisse für eine maximale Chipausbeute in der Halbleiterfertigung.
Каталоги клапанов для атомно-слоевого осаждения (ALD)
Получите подробные сведения о продукции, в том числе о материалах изготовления, номинальных параметрах давления и температуры, вариантах исполнения и вспомогательных принадлежностях.
Besonders hohe Zykluslebensdauer bei hoher Betätigungsgeschwindigkeit; Cv-Bereich von 0,27 bis 0,62; Mit Hochtemperatursteuerköpfen einsetzbar bis 200°C (392°F); Optionaler elektronischer Steuerkopf-Stellungsmelder; Geeignet für ultrahochreine Anwendungen mit Körper aus Edelstahl 316L VIM-VAR; VCR®, Stumpfschweißenden und modulare Bauteile für Flächenbefestigung
Один новый клапан и три причины, которые позволят ему изменить производство полупроводников
Узнайте, как новейшие достижения в технологии ALD (атомно-слоевое осаждение) меняют ситуацию на рынке высокотехнологичного производства полупроводников.
Узнайте больше о периодической таблицеРесурсы Swagelok специально для вас
최적의 합금으로 반도체 수율 향상
반도체 제조업체가 어떻게 하면 핵심 유체 시스템 부품에 적절한 합금을 선택하여 종합적인 생산 수율과 장기 수익성을 높일 수 있는지 알아보십시오.
Q&A: 반도체 제조의 과거와 현재, 그리고 미래
반도체 장비 OEM, 마이크로칩 제조업체, 유체 시스템 솔루션 제공업체가 어떻게 지난 몇십 년 동안 협력을 통해 반도체 시장이 무어의 법칙에 따른 수요를 충족하도록 해왔으며, 이제부터는 어떻게 해야 할 것인지 알아보십시오.
광섬유 장비 제조업체가 맞춤형 솔루션으로 효율을 높인 사례
로젠달 넥스트롬(Rosendahl Nextrom)은 1980년대부터 Swagelok에 의존하여 사업을 확장해왔습니다. 이 회사가 경쟁업체보다 앞서며 업계 리더 지위를 유지하도록 해준 솔루션에 대해 자세히 알아보십시오.
첨단 과학 분야에 필요한 신뢰성 높은 유체 시스템 솔루션
핀란드의 희석 냉동기 제조업체인 블루포스(Bluefors)가 양자 컴퓨팅과 실험물리학 등을 구현하는 데 Swagelok의 유체 시스템 부품과 솔루션을 신뢰하는 이유를 소개합니다.