Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD) Swagelok®
Las válvulas Swagelok de ultra alta pureza para deposición de capas atómicas (ALD) ofrecen vida útil ultra alta, alta velocidad de actuación, los caudales, la inmersión térmica y la extrema limpieza necesarias para permitir una dosificación precisa y maximizar la producción de chips en aplicaciones avanzadas de fabricación de semiconductores.
Más Información sobre Válvulas ALDDesde que introdujimos en el mercado mundial las válvulas ALD, hemos trabajado conjuntamente con los fabricantes de herramientas para semiconductores y las plantas para ofrecer una tecnología avanzada de válvulas ALD que ofrezca los niveles extremos de precisión, consistencia, limpieza y larga vida útil necesarios para seguir el rápido ritmo de innovación del mercado. Las válvulas ALD Swagelok®pueden apoyar el incremento de la eficiencia en la producción de los chips y superar los retos que suelen ir asociados a los procesos ALD.
Nuestras válvulas de ultra alta pureza ALD se caracterizan por:
- Ciclo de vida ultra-alto con actuación de alta velocidad
- Cv desde 0,27 hasta 1,7
- Capacidad de temperatura hasta 200°C (392°F) para modelos específicos.
- Opción de detección de posición del actuador electrónica u óptica
- Idoneidad de limpieza para las aplicaciones de ultra alta pureza
- Conexiones finales para sistemas de montaje modular superficial, soldadura de tubo a tope y VCR®
ALD-Ventile – Kategorien
Ultrahochreine Membranventile - Serien ALD3 und ALD6
Die ALD3- und ALD6-Membranventile bieten eine extrem hohe Lebensdauer, schnelle Betätigung und hohe Leistung bei der Atomlagenabscheidung.
Ultrahochreine Membranventile für Anwendungen mit hohem Durchfluss, Serie ALD20
Das fortschrittliche, ultrahochreine ALD20-Ventil bietet 2–3 mal höhere Durchflussraten als andere ALD-Ventile.
Ultrahochreine Membranventile, Serie ALD7
Das ALD7-Membranventil für ultrahochreine Anwendungen bietet präzise und konsistente Ergebnisse für eine maximale Chipausbeute in der Halbleiterfertigung.
Catálogos de Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD)
Encuentre información detallada de producto, incluidos materiales de construcción, valores nominales de presión y temperatura, las opciones y los accesorios.
Besonders hohe Zykluslebensdauer bei hoher Betätigungsgeschwindigkeit; Cv-Bereich von 0,27 bis 0,62; Mit Hochtemperatursteuerköpfen einsetzbar bis 200°C (392°F); Optionaler elektronischer Steuerkopf-Stellungsmelder; Geeignet für ultrahochreine Anwendungen mit Körper aus Edelstahl 316L VIM-VAR; VCR®, Stumpfschweißenden und modulare Bauteile für Flächenbefestigung
Una Nueva Válvula: Tres Razones por las que Podría Cambiar la Fabricación del Semiconductor
Descubra cómo la última innovación en la tecnología de válvulas de deposición de capas atómicas (ALD), está cambiando las cosas para los fabricantes de semiconductores de alta tecnología.
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첨단 과학 분야에 필요한 신뢰성 높은 유체 시스템 솔루션
핀란드의 희석 냉동기 제조업체인 블루포스(Bluefors)가 양자 컴퓨팅과 실험물리학 등을 구현하는 데 Swagelok의 유체 시스템 부품과 솔루션을 신뢰하는 이유를 소개합니다.