Swagelok® Ultrahochreine Membranventile (Serie ALD7)
Das ultrahochreine Swagelok ALD7-Ventil liefert die Durchflusskonsistenz und -kapazität, Steuerkopfgeschwindigkeit, Temperaturbereiche und Sauberkeit, die notwendig ist, um den Chip-Durchsatz in neuen oder existierenden Halbleiterproduktionswerkzeugen zu maximieren.
Weitere Informationen anfordernDie Leistung ist so konstant, dass es an eine Revolution grenzt!
Das ultrahochreine Swagelok ALD7-Ventil von Swagelok ist die neueste Innovation in der Atomschichtsedimentierungsventiltechnologie (ALD), die das Ergebnis von mehr als fünf Jahrzehnten Kooperation zwischen Swagelok, Halbleiterherstellern und Werkzeugherstellern ist. Dieses Hochleistungs-Halbleiterventil gestattet Werkzeugherstellern und Chip-Herstellern, realisierbare Chip-Erträge zu erhöhen und die Profitabilität zu verbessern, indem die Durchflusskapazität, die Steuerkopfgeschwindigkeit und die Leistung bei hohen Temperaturen sichergestellt wird, um Einschränkungen bei aktuellen Produktionsprozessen zu bewältigen.
Für kompromisslose Präzision gebaut
Das ALD7 Ventil weist schnellere Reaktionszeiten, thermische Stabilität bei hohen Temperaturen und verbesserte Korrosionsbeständigkeit auf und liefert zuverlässige Leistung von Ventil zu Ventil, Dosis zu Dosis und Kammer zu Kammer für eine sehr lange Zyklusdauer.
- Das ALD7 liefert präzise Dosierung für Millionen von Zyklen in den anspruchvollsten ALD-Anwendungen
- Verbesserte Steuerkopftechnologie ermöglicht es, dass dieses Halbleiterventil schneller als die in der Branche übliche Technologie arbeitet, mit einer Reaktionszeit von weniger als 5 ms.
- Der Steuerkopf kann bis 150°C eingetaucht werden, und das Ventil ist bis 200°C zugelassen, wodurch Durchflusskontinuität bei hohen Temperaturen und unter Vakuumbedingungen gewährleistet wird.
- Ein Ventilkörper besteht aus proprietärem ultrahochreinem Swagelok Edelstahl 316L VIM-VAR, der sicherstellt, dass ALD7 gegenüber korrosiven Gasen beständig ist.
Höhere Leistung. Minimale Nacharbeiten erforderlich
Das ALD7 kann bei gleichbleibender Raumanforderung verglichen mit existierenden Halbleiterventilen verbesserte Durchflusskapazität liefern. Das kompakte Design des Ventils ermöglicht Halbleiterherstellern, die Produktivität ihrer Altgeräte zu verbessern, ohne wesentliche Prozessänderungen daran vornehmen zu müssen.
- Das ALD7 kann einen Durchflusskoeffizienten (Cv) von bis zu 0,7 liefern sowie eine präzise, wiederholbare Dosierung von einem Ventil zum anderen sicherstellen.
- Das ALD hat die gleiche 1,5-Zoll-Stellfläche wie die branchenüblichen ALD-Ventile von Swagelok
- Das Ventil weist einen integrierten thermischen Isolator auf, was das Profil des Ventils verkürzt und Systemdesignern gestattet, den begrenzten Raum in der Nähe der Reaktionskammer optimal zu nutzen
Technische Daten
| Arbeitsdruck | Vakuum bis 10,0 bar (145 psig) |
| Berstdruck | >220 bar (3200 psig) |
| Steuerdruck | 4,1 bis 8,27 bar (60 bis 120 psig) |
| Temperaturbereich | Ventilkörper von 0°C (32°F) bis 200°C (392°F) Steuerkopf von 0°C (32°F) bis 150°C (302°F) |
| Durchflusskoeffizient | 0,7 Cv |
| Körperwerkstoffe | Edelstahl 316L VIM-VAR |
| Membranwerkstoff | Super-Legierung auf Kobaltbasis |
| Endanschlüsse | |
| Typ | VCR® Fittings Rohrstumpfschweißenden Modulare Flächenmontage mit C-Dichtung (1,5 Zoll) mit hohem Durchfluss |
Ventil der Serie ALD7—Kataloge
Finden Sie detaillierte Produktinformationen, einschließlich Werkstoffe, Druck- und Temperaturbereiche, Optionen und Zubehör.
Besonders hohe Zykluslebensdauer bei hoher Betätigungsgeschwindigkeit; Cv-Bereich von 0,27 bis 0,62; Mit Hochtemperatursteuerköpfen einsetzbar bis 200°C (392°F); Optionaler elektronischer Steuerkopf-Stellungsmelder; Geeignet für ultrahochreine Anwendungen mit Körper aus Edelstahl 316L VIM-VAR; VCR®, Stumpfschweißenden und modulare Bauteile für Flächenbefestigung
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