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原子层沉积 (ALD) 阀

世伟洛克® 原子层沉积 (ALD) 阀

世伟洛克超高纯原子层沉积 (ALD) 阀具有超高循环寿命、高速执行、流量、热浸没和超高洁净度,可在先进半导体制造应用中实现精确进料并尽可能地提高芯片产量。

索取 ALD 阀门信息

ALD 阀门问世以来,我们一直与半导体工具 OEM 和晶圆厂密切合作,提供的先进 ALD 阀门技术具有超高的精度、一致性、洁净度和高循环寿命,是紧跟市场快速创新步伐所必需的。世伟洛克® ALD 阀门可支持芯片生产效率的提高,并克服 ALD 工艺通常面临的挑战。

我们的 ALD 超高纯阀具有以下特点:

  • 快速动作下的超高循环寿命
  • Cv 范围从 0.27 至 1.7
  • 指定型号的承温能力高达 392°F (200°C)
  • 电子或光学执行机构位置传感选购件
  • 洁净度适合超高纯应用
  • 模块化表面安装、卡套管对焊和 VCR® 端接

了解 ALD 阀门如何应对挑战

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