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Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD)

Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD) Swagelok®

Las válvulas Swagelok de ultra alta pureza para deposición de capas atómicas (ALD) ofrecen vida útil ultra alta, alta velocidad de actuación, los caudales, la inmersión térmica y la extrema limpieza necesarias para permitir una dosificación precisa y maximizar la producción de chips en aplicaciones avanzadas de fabricación de semiconductores.

Más Información sobre Válvulas ALD

Desde que introdujimos en el mercado mundial las válvulas ALD, hemos trabajado conjuntamente con los fabricantes de herramientas para semiconductores y las plantas para ofrecer una tecnología avanzada de válvulas ALD que ofrezca los niveles extremos de precisión, consistencia, limpieza y larga vida útil necesarios para seguir el rápido ritmo de innovación del mercado. Las válvulas ALD Swagelok®pueden apoyar el incremento de la eficiencia en la producción de los chips y superar los retos que suelen ir asociados a los procesos ALD.

Nuestras válvulas de ultra alta pureza ALD se caracterizan por:

  • Ciclo de vida ultra-alto con actuación de alta velocidad
  • Cv desde 0,27 hasta 1,7
  • Capacidad de temperatura hasta 200°C (392°F) para modelos específicos.
  • Opción de detección de posición del actuador electrónica u óptica
  • Idoneidad de limpieza para las aplicaciones de ultra alta pureza
  • Conexiones finales para sistemas de montaje modular superficial, soldadura de tubo a tope y VCR®

Vea Cómo las Válvulas ALD Solucionan Retos

ALD(原子層蒸着)用バルブのカテゴリー

大流量用超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD20シリーズ

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超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD3 / ALD6シリーズ

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超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD7シリーズ

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Swagelok® ALD7超高純度用ダイヤフラム・バルブは、半導体製造アプリケーションにおいてデバイスの歩留まりを最大化するのに必要な精度および一貫性を備えています。

Catálogos de Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD)

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