
Swagelok® Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)
Dank ihrer äußerst langen Lebensdauer, der sehr schnellen Auslösung, hohen Durchflussraten, der Fähigkeit zur Wärmeimmersion sowie ihrer herausragenden Sauberkeit sorgen die ultrahochreinen Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD) von Swagelok für eine präzise Dosierung und eine maximale Chipausbeute in der modernen Halbleiterfertigung.
Informationen zu ALD-Ventilen anfordernSeit Einführung der ALD-Ventiltechnologie arbeitet Swagelok zusammen mit Kunden aus der Halbleiterfertigung an neuen Lösungen, die mit den sich rasch ändernden Prozessanforderungen auf dem Markt Schritt halten können. Die fortschrittlichen ALD-Ventile überzeugen durch ein äußerst hohes Maß an Präzision, Konsistenz und Sauberkeit sowie eine lange Lebensdauer. ALD-Ventile von Swagelok® unterstützen effiziente Prozesse bei der Chipherstellung und helfen Ihnen, die mit der Atomlagenabscheidung verbundenen Herausforderungen zu meistern.
Vorteile unserer ultrahochreinen ALD-Ventile:
- Äußerst lange Lebensdauer mit hohen Stellgeschwindigkeiten
- Cv-Bereich von 0,27 bis 1,7
- Temperaturbeständig bis 200 °C (392 °F) bei bestimmten Modellen
- Elektronische oder optische Stellungssensoren für Stellantriebe optional verfügbar
- Für ultrahochreine Anwendungen geeignet
- Modulare Flächenmontage, Stumpfschweißfitting und VCR®-Verbindungen
Категории клапанов для атомно-слоевого осаждения (ALD)

Клапаны сверхвысокой степени чистоты для систем с высоким расходом, серия ALD20
Технология атомно-слоевого осаждения с величиной расхода в 2-3 раза выше, чем у других клапанов ALD благодаря клапану сверхвысокой степени чистоты ALD20.

Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серии ALD3 и ALD6
Мембранные клапаны ALD3 и ALD6 обеспечивают сверхвысокий циклический срок службы, высокую скорость срабатывания и эффективную работу в системах атомно-слоевого осаждения.
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7
Мембранные клапаны Swagelok® ALD7 сверхвысокой степени чистоты обеспечивают точность и единообразие, необходимые для максимального увеличения выхода годных кристаллов в полупроводниковой промышленности.
ALD-Ventile—Kataloge
Hier finden Sie ausführliche Produktinformationen zu Werkstoffen, Druckstufen, Auslegungstemperaturen, Optionen und Zubehör.
Характеристики: Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания; Cv в диапазоне от 0,27 до 0,62; возможность работы при температуре до 392 °F (200 °C) с термостойкими приводами; вариант исполнения с электронным датчиком положения привода; подходят для применения в сверхчистых системах с корпусом из нержавеющей стали 316L VIM-VAR; торцевые соединения VCR®, под приварку встык и модульные торцевые соединения для монтажа на поверхность.

Kleines Ventil mit großer Wirkung: Warum ein neues Ventil die Halbleiterproduktion verändern könnte
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Verbessern Sie Ihre Halbleiterproduktion durch den Einsatz optimierter Legierungen
Erfahren Sie, wie Halbleiterhersteller ihre Produktionsausbeute und Profitabilität durch Auswahl der passenden Werkstoffe für wichtige Fluidsystemkomponenten langfristig optimieren.

Q&A: Entwicklungen und Trends in der Halbleiterherstellung
In diesem Artikel beschäftigen wir uns damit, wie die Zusammenarbeit zwischen Herstellern von Halbleiter-Fertigungsanlagen, Chipproduzenten und Fluidsystemanbietern in der Halbleiterindustrie über Jahrzehnte hinweg dazu beigetragen hat, dass das Mooresche Gesetz eingehalten werden konnte. Zudem werfen wir einen Blick in die Zukunft dieser schnelllebigen Branche.

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