text.skipToContent text.skipToNavigation
Válvulas de Diafragma de Ultra Alta Pureza, Serie ALD7

Válvulas de Diafragma Swagelok® de Ultra Alta Pureza para Proceso de Capas Atómicas (Serie ALD7)

La válvula Swagelok ALD7 de ultra alta pureza ofrece la consistencia y capacidad de caudal, la velocidad del actuador, la temperatura y la limpieza necesaria para maximizar la producción de chips en las herramientas de fabricación de semiconductores nuevas o existentes.

Solicite Información sobre la Válvula ALD7

La válvula de diafragma Swagelok® ALD7 de ultra alta pureza para procesos de deposición de capas atómicas (ALD) permite a los fabricantes de herramientas para semiconductores y fabricantes de chips optimizar la producción de chips viables y mejorar la rentabilidad aumentando la consistencia y capacidad de caudal, la velocidad del actuador y el rendimiento a altas temperaturas necesarios para superar las limitaciones de los procesos de producción. Ofrece un rendimiento consistente de válvula a válvula, de dosis a dosis y de cámara a cámara a lo largo de un ciclo de vida ultra-alto.

La válvula Swagelok ALD7:

  • Permite una dosificación rápida y precisa a lo largo de millones de ciclos, incluso en las aplicaciones más exigentes, y tiene una tecnología de actuador mejorada con un tiempo de respuesta de sólo 5 ms.
  • Es resistente a los gases corrosivos gracias a su cuerpo de acero inoxidable Swagelok 316L VIM-VAR de ultra alta pureza.
  • Puede calentarse hasta 200°C manteniendo el actuador neumático por debajo de la temperatura máxima de servicio de 150°C.
  • Tiene un coeficiente de caudal (Cv) de hasta 0,7 (hay disponibles versiones personalizadas opcionales (ajustadas en fábrica) con un coeficiente de caudal de 0,5–0,7 Cv).
  • Mantiene el mismo tamaño que las válvulas ALD industriales Swagelok y tiene un aislador térmico integrado para maximizar el espacio limitado cerca de la cámara de reacción.

Vea de Cerca las Válvulas ALD7

Especificaciones de la Válvula ALD7

Presión de ServicioVacío hasta 10,0 bar (145 psig)
Presión de Rotura> 220 bar (3200 psig)
Presión de Actuación4,1 a 8,27 bar (60 a 120 psig)
Temperatura de ServicioCuerpo estándar de la válvula de 0°C (32°F) a 200°C (392°F)
Coeficiente de CaudalCv estándar, 0,7 (ajustado en fábrica)
Materiales del CuerpoAcero inoxidable 316L VIM-VAR
Material del DiafragmaSuper aleación con base de cobalto
Conexiones FinalesTipo: Accesorios VCR®, soldadura de tubo a tope, montaje modular superficial de alto caudal con junta C de 1,5 pulg.

¿Tiene alguna pregunta sobre las válvulas ALD?

Especialistas Locales

Catálogos de Válvulas Series ALD7

Encuentre información detallada de producto, incluidos materiales de construcción, valores nominales de presión y temperatura, las opciones y los accesorios.

Válvulas y manifolds ALD

Cómo Solucionar los Principales Retos del Procesamiento de Semiconductores mediante ALD y ALE

Los procesos de producción de semiconductores ALD y ALE plantean algunos retos y complejidades propias. Vea cómo la selección correcta de válvulas de proceso puede ayudarle a superarlas.

Elegir las Válvulas Correctas para los Retos ALD

고객별 맞춤 선별 Swagelok 리소스

Swagelok 유체 시스템 부품은 반도체 제조 환경에서 높은 내구성을 발휘하도록 설계된 재질로 제조됩니다.
최적의 합금으로 반도체 수율 향상

반도체 제조업체가 어떻게 하면 핵심 유체 시스템 부품에 적절한 합금을 선택하여 종합적인 생산 수율과 장기 수익성을 높일 수 있는지 알아보십시오.

Carl White는 반도체 산업 공급망 내 다양한 분야에서 40년 가까이 종사했으며, 반도체 산업 발전의 과거와 현재, 미래에 대해 자신의 경험을 바탕으로 한 전망을 제시합니다.
Q&A: 반도체 제조의 과거와 현재, 그리고 미래

반도체 장비 OEM, 마이크로칩 제조업체, 유체 시스템 솔루션 제공업체가 어떻게 지난 몇십 년 동안 협력을 통해 반도체 시장이 무어의 법칙에 따른 수요를 충족하도록 해왔으며, 이제부터는 어떻게 해야 할 것인지 알아보십시오.

Rosendahl Nextrom과 Swagelok, 협력을 통해 운영 효율성 극대화
광섬유 장비 제조업체가 맞춤형 솔루션으로 효율을 높인 사례

로젠달 넥스트롬(Rosendahl Nextrom)은 1980년대부터 Swagelok에 의존하여 사업을 확장해왔습니다. 이 회사가 경쟁업체보다 앞서며 업계 리더 지위를 유지하도록 해준 솔루션에 대해 자세히 알아보십시오.

희석 냉동기(Dilution refrigerator) 제조업체인 블루포스(Bluefors)는 Swagelok 유체 시스템 부품과 솔루션을 신뢰합니다.
첨단 과학 분야에 필요한 신뢰성 높은 유체 시스템 솔루션

핀란드의 희석 냉동기 제조업체인 블루포스(Bluefors)가 양자 컴퓨팅과 실험물리학 등을 구현하는 데 Swagelok의 유체 시스템 부품과 솔루션을 신뢰하는 이유를 소개합니다.

Este proceso puede durar varios minutos. Por favor, tenga paciencia y permanezca en la página.