Мембранные клапаны Swagelok® сверхвысокой степени чистоты (серия ALD7)
Клапаны Swagelok серии ALD7 сверхвысокой степени чистоты обеспечивают стабильный расход и пропускную способность, быструю отработку, температурные параметры и уровень чистоты, помогающие увеличить выпуск чипов при использовании новых или имеющихся инструментов для производства полупроводников.
Запросить дополнительную информацию
Революционное решение для стабильной эффективной работы
Мембранный клапан Swagelok серии ALD7 сверхвысокой степени чистоты — новейшее достижение в технологии атомно-слоевого осаждения (ALD), разработанной по результатам более чем 50-летнего сотрудничества компании Swagelok с производителями полупроводников и инструментов. Данный высокоэффективный полупроводниковый клапан позволяет производителям инструментов и чипов увеличить объемы их производства и повысить прибыльность, обеспечивая стабильный расход и пропускную способность, скорость приведения в действие и работу при высоких температурах, необходимые для преодоления ограничений в рамках имеющихся производственных процессов.
Точность без компромиссов
Предлагая более высокую скорость срабатывания, термостабильность при высоких температурах и повышенную коррозионную стойкость, клапаны серии ALD7 обеспечивают стабильно эффективную работу всех клапанов и камер, а также единообразное дозирование в течение сверхдлительного срока службы.
- Клапаны серии ALD7 обеспечивают точное дозирование на протяжении нескольких миллионов циклов даже в самых тяжелых условиях в процессе атомно-слоевого осаждения
- Использование усовершенствованной технологии привода позволяет этим полупроводниковым клапанам работать быстрее, чем при использовании стандартных промышленных технологий — скорость срабатывания составляет всего лишь 5 мс
- Корпус клапана может нагреваться до 200°C при сохранении максимальной рабочей температуры пневматического привода ниже 150°C
- Корпус клапана изготовлен из нержавеющей стали 316L VIM-VAR сверхвысокой степени чистоты собственной разработки компании Swagelok, что обеспечивает стойкость клапана серии ALD7 к коррозионным газам
Высокая эффективность. Минимальная потребность в доработке.
Клапаны серии ALD7 обеспечивают пропускную способность, сравнимую с существующими полупроводниковыми клапанами, при тех же размерах. Их компактная конструкция помогает производителям полупроводников повышать производительность устаревшего оборудования без значительных изменений технологического процесса.
- Коэффициент расхода (Cv) стандартного клапана ALD7 достигает 0,7 и обеспечивает точное, повторяющееся межкамерное дозирование; также доступны версии с индивидуальной (заводской) настройкой, которые могут обеспечить коэффициент расхода 0,5–0,7 Cv
- Размеры клапана серии ALD7 такие же, как и у полуторадюймовых стандартных промышленных клапанов Swagelok для атомно-слоевого осаждения
- Клапан имеет встроенный термоизолятор, который уменьшает сечение клапан’ов, позволяя проектировщикам системы максимально эффективно использовать ограниченное пространство возле реакционной камеры
Технические характеристики
| Рабочее давление | От вакуума до 145 psig (10,0 бар ман) |
| Давление разрыва | > 3200 psig (220 бар ман) |
| Давление срабатывания | От 60 до 120 psig (от 4,1 до 8,27 бар ман) |
| Номинальная температура | Корпус стандартного клапана от 32°F (0°C) до 392°F (200°C) |
| Коэффициент расхода | Стандартный коэффициент расхода 0,7 Cv (устанавливается в заводских условиях) |
| Материалы корпуса | Нерж. сталь 316L VIM-VAR |
| Материал мембраны | Специальный сплав на основе кобальта |
| Торцевые соединения | Тип: Фитинги VCR®, Соединение под приварку встык, C-образное модульное уплотнение размером 1,5 дюйма с высоким расходом для монтажа на поверхность |
Каталоги клапанов серии ALD7
Получите подробную информацию о наших изделиях, включая материалы изготовления, номинальные параметры давления и температуры, варианты исполнения и вспомогательные принадлежности.
Характеристики: Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания; Cv в диапазоне от 0,27 до 0,62; возможность работы при температуре до 392 °F (200 °C) с термостойкими приводами; вариант исполнения с электронным датчиком положения привода; подходят для применения в сверхчистых системах с корпусом из нержавеющей стали 316L VIM-VAR; торцевые соединения VCR®, под приварку встык и модульные торцевые соединения для монтажа на поверхность.
Способы решения основных проблем, связанных с обработкой полупроводников методом атомно-слоевого осаждения (ALD) и атомно-слоевого травления (ALE)
Для процесса обработки полупроводников методами атомно-слоевого осаждения (ALD) и атомно-слоевого травления (ALE) характерны определенные проблемы и сложности. Узнайте, как правильный выбор технологических клапанов поможет вам справиться с ними.
Выберите подходящие клапаны для решения задач в области атомно-слоевого осаждения (ALD)Ресурсы Swagelok специально для вас
Повышение выхода годных полупроводниковых изделий благодаря применению усовершенствованных сплавов
Узнайте, как производители полупроводников могут повысить выход годных изделий на каждом этапе производственного процесса, а также рентабельность в долгосрочной перспективе за счет правильного подбора металлов для важнейших компонентов жидкостных и газовых систем.
Вопросы и ответы. Полупроводниковое производство — вчера, сегодня, завтра
Узнайте, как сотрудничество между OEM-производителями оборудования, производителями микросхем и поставщиками решений для жидкостных и газовых систем позволило полупроводниковой отрасли десятилетиями придерживаться закона Мура, а также о том, куда двигаться дальше.
Производитель оптоволоконного оборудования повышает эффективность с помощью индивидуальных решений
С 1980-х годов Rosendahl Nextrom полагается на компанию Swagelok в развитии своего бизнеса. Узнайте больше о решениях, которые позволили компании опередить конкурентов и остаться в числе отраслевых лидеров.
Надежные решения в жидкостных и газовых системах для новых научно-исследовательских возможностей
Узнайте, почему финская компания-производитель криогенных рефрижераторов Bluefors доверяет компонентам и решениям Swagelok для жидкостных и газовых систем, которые способствуют развитию сферы квантовых вычислений, экспериментальной физики и других направлений.