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Vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)

Vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok®

Les vannes très haute pureté pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok ont une durée de vie très longue, s’actionnent très rapidement, permettent des débits élevés, peuvent être immergées à haute température et offrent une propreté extrême, autant d’éléments nécessaires pour obtenir un dosage précis et maximiser la production de puces semi-conductrices dans des applications de pointe du secteur des semi-conducteurs.

Demander des informations sur les vannes ALD

Depuis le lancement par Swagelok de la technologie des vannes ALD, nous avons travaillé en étroite collaboration avec des clients du secteur des semi-conducteurs – fabricants de puces et fabricants d’outillage – pour créer des vannes ALD sophistiquées offrant les niveaux extrêmes de précision, de régularité et de propreté ainsi que la durée de vie nécessaires pour suivre le rythme rapide de l’innovation sur ce marché. Les vannes ALD Swagelok® peuvent accroître les rendements de la production de puces semi-conductrices et surmonter les difficultés souvent associées au procédé de dépôt par couche atomique.

Les caractéristiques de nos vannes ALD très haute pureté sont les suivantes :

  • Durée de vie très longue et actionnement ultra-rapide
  • Cv de 0,27 à 1,7
  • Utilisation à des températures allant jusqu’à 200°C (392°F) pour certains modèles
  • Dispositif électronique ou optique de détection de la position de l’actionneur proposé en option
  • Propreté adaptée aux applications de très haute pureté
  • Montage modulaire en surface, tube à souder bout à bout et raccords VCR®

Découvrir les problèmes résolus par les vannes ALD

Категории клапанов для атомно-слоевого осаждения (ALD)

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