Swagelok^® Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)

Dank ihrer äußerst langen Lebensdauer, der sehr schnellen Auslösung, hohen Durchflussraten, der Fähigkeit zur Wärmeimmersion sowie ihrer herausragenden Sauberkeit sorgen die ultrahochreinen Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD) von Swagelok für eine präzise Dosierung und eine maximale Chipausbeute in der modernen Halbleiterfertigung.

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Seit Einführung der ALD-Ventiltechnologie arbeitet Swagelok zusammen mit Kunden aus der Halbleiterfertigung an neuen Lösungen, die mit den sich rasch ändernden Prozessanforderungen auf dem Markt Schritt halten können. Die fortschrittlichen ALD-Ventile überzeugen durch ein äußerst hohes Maß an Präzision, Konsistenz und Sauberkeit sowie eine lange Lebensdauer. ALD-Ventile von Swagelok^® unterstützen effiziente Prozesse bei der Chipherstellung und helfen Ihnen, die mit der Atomlagenabscheidung verbundenen Herausforderungen zu meistern.

Vorteile unserer ultrahochreinen ALD-Ventile:

Äußerst lange Lebensdauer mit hohen Stellgeschwindigkeiten
C_v-Bereich von 0,27 bis 1,7
Temperaturbeständig bis 200 °C (392 °F) bei bestimmten Modellen
Elektronische oder optische Stellungssensoren für Stellantriebe optional verfügbar
Für ultrahochreine Anwendungen geeignet
Modulare Flächenmontage, Stumpfschweißfitting und VCR^®-Verbindungen

Erfahren Sie mehr darüber, wie Sie Herausforderungen bei der Halbleiterherstellung mit ALD-Ventilen meistern

ALD-Ventile—Kataloge

Hier finden Sie ausführliche Produktinformationen zu Werkstoffen, Druckstufen, Auslegungstemperaturen, Optionen und Zubehör.

다이어프램 밸브원자층 증착 ALD 용

원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구

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