Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD) Swagelok^®

Las válvulas Swagelok de ultra alta pureza para deposición de capas atómicas (ALD) ofrecen vida útil ultra alta, alta velocidad de actuación, los caudales, la inmersión térmica y la extrema limpieza necesarias para permitir una dosificación precisa y maximizar la producción de chips en aplicaciones avanzadas de fabricación de semiconductores.

Más Información sobre Válvulas ALD

Desde que introdujimos en el mercado mundial las válvulas ALD, hemos trabajado conjuntamente con los fabricantes de herramientas para semiconductores y las plantas para ofrecer una tecnología avanzada de válvulas ALD que ofrezca los niveles extremos de precisión, consistencia, limpieza y larga vida útil necesarios para seguir el rápido ritmo de innovación del mercado. Las válvulas ALD Swagelok^®pueden apoyar el incremento de la eficiencia en la producción de los chips y superar los retos que suelen ir asociados a los procesos ALD.

Nuestras válvulas de ultra alta pureza ALD se caracterizan por:

Ciclo de vida ultra-alto con actuación de alta velocidad
C_v desde 0,27 hasta 1,7
Capacidad de temperatura hasta 200°C (392°F) para modelos específicos.
Opción de detección de posición del actuador electrónica u óptica
Idoneidad de limpieza para las aplicaciones de ultra alta pureza
Conexiones finales para sistemas de montaje modular superficial, soldadura de tubo a tope y VCR^®

Vea Cómo las Válvulas ALD Solucionan Retos

原子层沉积 (ALD) 阀目录

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다이어프램 밸브원자층 증착 ALD 용

원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구

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