Vannes très haute pureté Swagelok® pour le procédé de dépôt par couche atomique à haut débit (série ALD20)
Les vannes très haute pureté ALD20 Swagelok offrent une forte capacité de débit parfaitement adaptée au procédé de dépôt par couche atomique qui requiert l’utilisation de gaz précurseurs à faible pression de vapeur.
Demander des informations sur les vannes ALD20La vanne très haute pureté ALD20 Swagelok® à débit élevé offre non seulement la fiabilité et l’efficacité attendues d’une vanne ALD Swagelok®, mais aussi la possibilité d’atteindre une stabilité de la température et des capacités de débit jusque-là inaccessibles. Elle permet aux fabricants d’expérimenter différents procédés et l’utilisation de précurseurs à faible pression de vapeur pour parvenir aux dépôts uniformes de gaz nécessaires au développement de technologies de pointe sans devoir apporter des modifications majeures aux procédés de fabrication.
La vanne ALD20 Swagelok :
- A un coefficient de débit (Cv) de 1,2 pour un encombrement identique (1,5 po) à celui des vannes ALD actuelles, offrant ainsi des performances accrues sans que le matériel en place ne doive être réorganisé
- Peut avoir un coefficient de débit encore plus élevé (Cv de 1,7) pour un encombrement légèrement supérieur (1,75 po) — soit le coefficient de débit le plus élevé actuellement disponible pour une vanne très haute pureté à durée de vie très longue.
- Peut être immergée complètement dans une unité d’alimentation en gaz à des températures comprises entre 10°C (50°F) et 200°C (392°F), ce qui élimine la nécessité d’isoler l’actionneur pendant le chauffage et améliore la régularité des dépôts
- Résiste plus efficacement à la corrosion grâce à un corps fabriqué en acier inoxydable 316L VIM-VAR ou en alliage 22
- Favorise une exploitation propre sur une très longue durée, contribuant ainsi à l’intégrité des procédés, grâce à un soufflet poli jusqu’à obtenir un Ra de 0,13 μm (5 µpo)
- Se caractérise par des déplacements reproductibles et ultrarapides (<10 ms) qui garantissent un débit régulier et précis répondant aux impératifs de dosage
Des coefficients de débit fixés par le client sont également possibles.
Caractéristiques techniques des vannes ALD20
| Pression de service | Du vide jusqu’à 1,4 bar (20 psig) |
| Pression d’éclatement | > 220 bar (3200 psig) |
| Pression d’actionnement | 4,9 à 6,2 bar (70 à 90 psig) |
| Température | 10 à 200°C (50 à 392°F) |
| Coefficient de débit (Cv) | 1,2 (montage modulaire en surface) ou 1,7 (config. droite) |
| Matériaux du corps | Acier inoxydable 316L VIM-VAR ou alliage 22 |
| Matériau du soufflet | Alliage 22 (Ra de 0,13 µm [5 μpo]) |
| Raccordements d’extrémité | Type (taille) : Raccord VCR® femelle (1/2 po), raccord VCR mâle tournant (1/2 po), tube à souder bout à bout, 0,50 po de long (1/2 po x 0,049 po), joint en C haut débit pour montage modulaire en surface (1,5 po) |
Besoin d’aide pour choisir une vanne ALD ?
Catalogues des vannes de la série ALD20
Trouver des informations détaillées sur nos produits – matériaux de fabrication, pressions et températures nominales, options, accessoires, etc.
원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
Une nouvelle vanne et trois raisons pour lesquelles elle pourrait révolutionner le secteur des semi-conducteurs.
Découvrez comment la dernière innovation dans le domaine des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) est en train de changer la donne pour les fabricants de semi-conducteurs haute technologie.
Exploiter davantage le tableau périodique고객별 맞춤 선별 Swagelok 리소스
최적의 합금으로 반도체 수율 향상
반도체 제조업체가 어떻게 하면 핵심 유체 시스템 부품에 적절한 합금을 선택하여 종합적인 생산 수율과 장기 수익성을 높일 수 있는지 알아보십시오.
Q&A: 반도체 제조의 과거와 현재, 그리고 미래
반도체 장비 OEM, 마이크로칩 제조업체, 유체 시스템 솔루션 제공업체가 어떻게 지난 몇십 년 동안 협력을 통해 반도체 시장이 무어의 법칙에 따른 수요를 충족하도록 해왔으며, 이제부터는 어떻게 해야 할 것인지 알아보십시오.
Производитель оптоволоконного оборудования повышает эффективность с помощью индивидуальных решений
С 1980-х годов Rosendahl Nextrom полагается на компанию Swagelok в развитии своего бизнеса. Узнайте больше о решениях, которые позволили компании опередить конкурентов и остаться в числе отраслевых лидеров.
Надежные решения в жидкостных и газовых системах для новых научно-исследовательских возможностей
Узнайте, почему финская компания-производитель криогенных рефрижераторов Bluefors доверяет компонентам и решениям Swagelok для жидкостных и газовых систем, которые способствуют развитию сферы квантовых вычислений, экспериментальной физики и других направлений.