Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD) Swagelok®
Las válvulas Swagelok de ultra alta pureza para deposición de capas atómicas (ALD) ofrecen vida útil ultra alta, alta velocidad de actuación, los caudales, la inmersión térmica y la extrema limpieza necesarias para permitir una dosificación precisa y maximizar la producción de chips en aplicaciones avanzadas de fabricación de semiconductores.
Más Información sobre Válvulas ALDDesde que introdujimos en el mercado mundial las válvulas ALD, hemos trabajado conjuntamente con los fabricantes de herramientas para semiconductores y las plantas para ofrecer una tecnología avanzada de válvulas ALD que ofrezca los niveles extremos de precisión, consistencia, limpieza y larga vida útil necesarios para seguir el rápido ritmo de innovación del mercado. Las válvulas ALD Swagelok®pueden apoyar el incremento de la eficiencia en la producción de los chips y superar los retos que suelen ir asociados a los procesos ALD.
Nuestras válvulas de ultra alta pureza ALD se caracterizan por:
- Ciclo de vida ultra-alto con actuación de alta velocidad
- Cv desde 0,27 hasta 1,7
- Capacidad de temperatura hasta 200°C (392°F) para modelos específicos.
- Opción de detección de posición del actuador electrónica u óptica
- Idoneidad de limpieza para las aplicaciones de ultra alta pureza
- Conexiones finales para sistemas de montaje modular superficial, soldadura de tubo a tope y VCR®
ALD（原子層蒸着）用バルブのカテゴリー
超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD3 / ALD6シリーズ
ALD3／ALD6ダイヤフラム・バルブは、非常に優れたサイクル・ライフおよび高速作動という特徴を備えており、原子層蒸着アプリケーションにおいて高いパフォーマンスを発揮します。
超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD7シリーズ
Swagelok® ALD7超高純度用ダイヤフラム・バルブは、半導体製造アプリケーションにおいてデバイスの歩留まりを最大化するのに必要な精度および一貫性を備えています。
Catalogues des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)
Trouver des informations détaillées sur nos produits – matériaux de fabrication, pressions et températures nominales, options, accessoires, etc.
■ サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能／■ 流量係数（Cv 値）：0.27 から1.7 まで／■ 最高使用温度：200°C（ALD20 の場合）／■ オプション：電気式インジケーター、光学式ポジション・センサーなど／■ 超高純度用途に適した316L VIM-VAR ステンレス鋼製ボディ／■ エンド・コネクション・タイプ：集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、VCR ® メタル・ガスケット式面シール継手
Une nouvelle vanne et trois raisons pour lesquelles elle pourrait révolutionner le secteur des semi-conducteurs.
Découvrez comment la dernière innovation dans le domaine des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) est en train de changer la donne pour les fabricants de semi-conducteurs haute technologie.
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