Vannes très haute pureté Swagelok^® pour le procédé de dépôt par couche atomique à haut débit (série ALD20)

Les vannes très haute pureté ALD20 Swagelok offrent une forte capacité de débit parfaitement adaptée au procédé de dépôt par couche atomique qui requiert l’utilisation de gaz précurseurs à faible pression de vapeur.

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La vanne très haute pureté ALD20 Swagelok^® à débit élevé offre non seulement la fiabilité et l’efficacité attendues d’une vanne ALD Swagelok^®, mais aussi la possibilité d’atteindre une stabilité de la température et des capacités de débit jusque-là inaccessibles. Elle permet aux fabricants d’expérimenter différents procédés et l’utilisation de précurseurs à faible pression de vapeur pour parvenir aux dépôts uniformes de gaz nécessaires au développement de technologies de pointe sans devoir apporter des modifications majeures aux procédés de fabrication.

La vanne ALD20 Swagelok :

A un coefficient de débit (C_v) de 1,2 pour un encombrement identique (1,5 po) à celui des vannes ALD actuelles, offrant ainsi des performances accrues sans que le matériel en place ne doive être réorganisé
Peut avoir un coefficient de débit encore plus élevé (C_v de 1,7) pour un encombrement légèrement supérieur (1,75 po) — soit le coefficient de débit le plus élevé actuellement disponible pour une vanne très haute pureté à durée de vie très longue.
Peut être immergée complètement dans une unité d’alimentation en gaz à des températures comprises entre 10°C (50°F) et 200°C (392°F), ce qui élimine la nécessité d’isoler l’actionneur pendant le chauffage et améliore la régularité des dépôts
Résiste plus efficacement à la corrosion grâce à un corps fabriqué en acier inoxydable 316L VIM-VAR ou en alliage 22
Favorise une exploitation propre sur une très longue durée, contribuant ainsi à l’intégrité des procédés, grâce à un soufflet poli jusqu’à obtenir un R_a de 0,13 μm (5 µpo)
Se caractérise par des déplacements reproductibles et ultrarapides (<10 ms) qui garantissent un débit régulier et précis répondant aux impératifs de dosage

Des coefficients de débit fixés par le client sont également possibles.

Découvrir comment la vanne ALD20 aide à surmonter les obstacles liés aux procédés de fabrication des semi-conducteurs

Caractéristiques techniques des vannes ALD20

Pression de service	Du vide jusqu’à 1,4 bar (20 psig)
Pression d’éclatement	> 220 bar (3200 psig)
Pression d’actionnement	4,9 à 6,2 bar (70 à 90 psig)
Température	10 à 200°C (50 à 392°F)
Coefficient de débit (C_v)	1,2 (montage modulaire en surface) ou 1,7 (config. droite)
Matériaux du corps	Acier inoxydable 316L VIM-VAR ou alliage 22
Matériau du soufflet	Alliage 22 (R_a de 0,13 µm [5 μpo])
Raccordements d’extrémité	Type (taille) : Raccord VCR^® femelle (1/2 po), raccord VCR mâle tournant (1/2 po), tube à souder bout à bout, 0,50 po de long (1/2 po x 0,049 po), joint en C haut débit pour montage modulaire en surface (1,5 po)

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Catalogues des vannes de la série ALD20

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Ultrahigh-Purity Valves for Atomic Layer Processing, ALD, Diaphragm and Bellows Valves

ALD 3, 6, and 7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available

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