Vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok®
Les vannes très haute pureté pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok ont une durée de vie très longue, s’actionnent très rapidement, permettent des débits élevés, peuvent être immergées à haute température et offrent une propreté extrême, autant d’éléments nécessaires pour obtenir un dosage précis et maximiser la production de puces semi-conductrices dans des applications de pointe du secteur des semi-conducteurs.
Demander des informations sur les vannes ALDDepuis le lancement par Swagelok de la technologie des vannes ALD, nous avons travaillé en étroite collaboration avec des clients du secteur des semi-conducteurs – fabricants de puces et fabricants d’outillage – pour créer des vannes ALD sophistiquées offrant les niveaux extrêmes de précision, de régularité et de propreté ainsi que la durée de vie nécessaires pour suivre le rythme rapide de l’innovation sur ce marché. Les vannes ALD Swagelok® peuvent accroître les rendements de la production de puces semi-conductrices et surmonter les difficultés souvent associées au procédé de dépôt par couche atomique.
Les caractéristiques de nos vannes ALD très haute pureté sont les suivantes :
- Durée de vie très longue et actionnement ultra-rapide
- Cv de 0,27 à 1,7
- Utilisation à des températures allant jusqu’à 200°C (392°F) pour certains modèles
- Dispositif électronique ou optique de détection de la position de l’actionneur proposé en option
- Propreté adaptée aux applications de très haute pureté
- Montage modulaire en surface, tube à souder bout à bout et raccords VCR®
원자층 증착(ALD) 밸브 카테고리
UHP 다이어프램 밸브, ALD3 및 ALD6 시리즈
ALD3 및 ALD6 다이어프램 밸브는 원자층 증착(ALD) 애플리케이션에서 매우 긴 수명, 고속 작동, 강력한 성능을 제공합니다.
UHP 다이어프램 밸브, ALD7 시리즈
Swagelok® ALD7 초고순도 다이어프램 밸브는 반도체 제조 애플리케이션에서 칩 수율을 극대화하는 데 필요한 정밀도와 일관성을 제공합니다.
Catalogues des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)
Trouver des informations détaillées sur nos produits – matériaux de fabrication, pressions et températures nominales, options, accessoires, etc.
원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
Une nouvelle vanne et trois raisons pour lesquelles elle pourrait révolutionner le secteur des semi-conducteurs.
Découvrez comment la dernière innovation dans le domaine des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) est en train de changer la donne pour les fabricants de semi-conducteurs haute technologie.
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