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원자층 증착(ALD) 밸브

스웨즈락® 원자층 증착(ALD) 밸브

스웨즈락 초고순도 원자층 증착(ALD) 밸브는 첨단 반도체 제조 애플리케이션에서 정밀한 증착을 위해 요구되는 매우 긴 사이클 수명, 고속 개폐, 유량, 고온 및 최상의 청결성을 제공합니다.

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당사의 고성능 ALD 밸브는 스웨즈락이 반도체 제조 산업에서 어떻게 오랜 기간 열정적인 기술 리더십을 보여왔는지에 관한 주요 사례입니다. 스웨즈락은 전세계에 ALD 밸브 기술을 소개한 이래 고객의 요구를 이해하기 위해 반도체 산업 고객들과 긴밀히 협력해왔으며 시장의 빠른 혁신 속도를 따라잡기 위하여 필요한 극한의 정밀도 , 일관성, 청정도 및 긴 수명을 제공하는 ALD 밸브를 탄생시켰습니다. 당사의 ALD 초고순도 밸브는 다음과 같은 특징이 있습니다:

  • 고속 개폐가 가능한 매우 긴 밸브 수명
  • 0.27 ~ 1.7 범위의 유량계수
  • 고온용 개폐기 사용 시 최대 392°F(200°C)의 고온 노출 성능
  • 표준 316L VIM-VAR 스테인리스강 밸브 몸체로 초고순도 애플리케이션에 적합
  • 블럭 조립식, 튜브 맞대기 용접 및 스웨즈락 VCR® 연결구
  • 전자식 또는 광학식 개폐기 위치 감지 옵션

카테고리

UHP 다이어프램 밸브, ALD3 및 ALD6 시리즈

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ALD3 및 ALD6 다이어프램 밸브는 원자층 증착 애플리케이션에서 매우 긴 수명, 빠른 작동 속도 및 강력한 성능을 발휘합니다.
UHP 다이어프램 밸브, ALD7 시리즈

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스웨즈락 ALD7 UHP 다이어프램 밸브는 반도체 제조 애플리케이션에서 칩 생산성을 극대화하는 데 요구되는 정밀도과 일관성을 제공합니다.
대유량 애플리케이션용 UHP 밸브, ALD20 시리즈

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ALD20 UHP 밸브는 원자층 증착 밸브 기술의 한계를 뛰어넘어, 기존 ALD 밸브 유량의 2~3배를 처리할 수 있습니다.

원자층 증착(ALD) 밸브 카탈로그

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