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Atomic Layer Deposition (ALD) Valves

Swagelok® Atomic Layer Deposition (ALD) Valves

Swagelok ultrahigh-purity atomic layer deposition (ALD) valves offer the ultrahigh cycle life, high-speed actuation, flow rates, thermal immersibility, and extreme cleanliness needed to enable precise dosing and maximize chip yield in advanced semiconductor manufacturing applications.

Request ALD Valve Information

Since introducing the world to ALD valves, we have worked closely with semiconductor tool OEMs and fabs to deliver advanced ALD valve technology that provides the extreme levels of precision, consistency, cleanliness, and high cycle life necessary to keep up with the quick pace of innovation in the marketplace. Swagelok® ALD valves can support increased chip production efficiency and overcome the challenges that are often associated with ALD processes.

Our ALD ultrahigh-purity valves feature:

  • Ultrahigh cycle life with high-speed actuation
  • Cv ranging from 0.27 to 1.7
  • Temperature capability up to 392°F (200°C) for specified models
  • Electronic or optical actuator position-sensing option
  • Cleanliness suitability for ultrahigh-purity applications
  • Modular surface mount, tube butt weld, and VCR® end connections

See How ALD Valves Solve Challenges

Категории клапанов для атомно-слоевого осаждения (ALD)

Клапаны сверхвысокой степени чистоты для систем с высоким расходом, серия ALD20

Клапаны сверхвысокой степени чистоты для систем с высоким расходом, серия ALD20

Технология атомно-слоевого осаждения с величиной расхода в 2-3 раза выше, чем у других клапанов ALD благодаря клапану сверхвысокой степени чистоты ALD20.

Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серии ALD3 и ALD6

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Мембранные клапаны ALD3 и ALD6 обеспечивают сверхвысокий циклический срок службы, высокую скорость срабатывания и эффективную работу в системах атомно-слоевого осаждения.
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7

Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7

Мембранные клапаны Swagelok® ALD7 сверхвысокой степени чистоты обеспечивают точность и единообразие, необходимые для максимального увеличения выхода годных кристаллов в полупроводниковой промышленности.

ALD(原子層蒸着)用バルブのカタログ

構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報につきましては、以下の資料をご参照ください。

半導体産業向けのSwagelok超高純度用ALD20シリーズ・バルブのクリーンルームでの組み立て

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今回は、原子層蒸着(ALD)バルブの最新テクノロジーが、ハイテク半導体メーカーにもたらす影響について紹介します。

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