Swagelok® Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)
Dank ihrer äußerst langen Lebensdauer, der sehr schnellen Auslösung, hohen Durchflussraten, der Fähigkeit zur Wärmeimmersion sowie ihrer herausragenden Sauberkeit sorgen die ultrahochreinen Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD) von Swagelok für eine präzise Dosierung und eine maximale Chipausbeute in der modernen Halbleiterfertigung.
Informationen zu ALD-Ventilen anfordernSeit Einführung der ALD-Ventiltechnologie arbeitet Swagelok zusammen mit Kunden aus der Halbleiterfertigung an neuen Lösungen, die mit den sich rasch ändernden Prozessanforderungen auf dem Markt Schritt halten können. Die fortschrittlichen ALD-Ventile überzeugen durch ein äußerst hohes Maß an Präzision, Konsistenz und Sauberkeit sowie eine lange Lebensdauer. ALD-Ventile von Swagelok® unterstützen effiziente Prozesse bei der Chipherstellung und helfen Ihnen, die mit der Atomlagenabscheidung verbundenen Herausforderungen zu meistern.
Vorteile unserer ultrahochreinen ALD-Ventile:
- Äußerst lange Lebensdauer mit hohen Stellgeschwindigkeiten
- Cv-Bereich von 0,27 bis 1,7
- Temperaturbeständig bis 200 °C (392 °F) bei bestimmten Modellen
- Elektronische oder optische Stellungssensoren für Stellantriebe optional verfügbar
- Für ultrahochreine Anwendungen geeignet
- Modulare Flächenmontage, Stumpfschweißfitting und VCR®-Verbindungen
Catégories de vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)
Vannes très haute pureté pour applications haut débit, série ALD20
Faites progresser la technologie du dépôt par couche atomique avec des débits 2 à 3 fois plus élevés qu’avec d’autres vannes ALD grâce à la vanne très haute pureté ALD20.
Vannes à membrane très haute pureté, séries ALD3 et ALD6
Conçues pour les applications de dépôt par couche atomique, les vannes à membrane ALD3 et ALD6 se caractérisent par une durée de vie très longue, un actionnement ultrarapide et une grande robustesse.
Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7
La vanne à membrane très haute pureté ALD7 Swagelok® offre la précision et la régularité nécessaires pour maximiser la production de puces dans le secteur des semi-conducteurs.
ALD-Ventile—Kataloge
Hier finden Sie ausführliche Produktinformationen zu Werkstoffen, Druckstufen, Auslegungstemperaturen, Optionen und Zubehör.
ALD 3, 6, and 7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available
Kleines Ventil mit großer Wirkung: Warum ein neues Ventil die Halbleiterproduktion verändern könnte
Erfahren Sie mehr darüber, wie die neueste Innovation in der ALD-Ventiltechnologie neue Möglichkeiten für Hersteller modernster Halbleiter schafft.
Neue Elemente aus dem Periodensystem in der Halbleiterfertigung nutzenSwagelok-Ressourcen für Sie zusammengestellt
Verbessern Sie Ihre Halbleiterproduktion durch den Einsatz optimierter Legierungen
Erfahren Sie, wie Halbleiterhersteller ihre Produktionsausbeute und Profitabilität durch Auswahl der passenden Werkstoffe für wichtige Fluidsystemkomponenten langfristig optimieren.
Q&A: 반도체 제조의 과거와 현재, 그리고 미래
반도체 장비 OEM, 마이크로칩 제조업체, 유체 시스템 솔루션 제공업체가 어떻게 지난 몇십 년 동안 협력을 통해 반도체 시장이 무어의 법칙에 따른 수요를 충족하도록 해왔으며, 이제부터는 어떻게 해야 할 것인지 알아보십시오.
광섬유 장비 제조업체가 맞춤형 솔루션으로 효율을 높인 사례
로젠달 넥스트롬(Rosendahl Nextrom)은 1980년대부터 Swagelok에 의존하여 사업을 확장해왔습니다. 이 회사가 경쟁업체보다 앞서며 업계 리더 지위를 유지하도록 해준 솔루션에 대해 자세히 알아보십시오.
첨단 과학 분야에 필요한 신뢰성 높은 유체 시스템 솔루션
핀란드의 희석 냉동기 제조업체인 블루포스(Bluefors)가 양자 컴퓨팅과 실험물리학 등을 구현하는 데 Swagelok의 유체 시스템 부품과 솔루션을 신뢰하는 이유를 소개합니다.