Swagelok®超高純度用ダイヤフラム・バルブ、原子層プロセス用（ALD3／ALD6シリーズ）
Swagelokダイヤフラム・バルブ ALD3／ALD6シリーズは、非常に優れたサイクル・ライフ、高速作動、最高0.62の流量係数を備えており、ALD（原子層蒸着）半導体製造に必要なプリカーサーの供給制御を行います。
ALDバルブについて問い合わせるSwagelok®超高純度用ダイヤフラム・バルブ ALD3／ALD6シリーズを使用すると、半導体製造 時に蒸着チャンバー内でマイクロデバイスに1層ずつ堆積する際に使用するプリカーサー・ガスの信頼性を保ちつつ、高速供給を行うことができます。高パフォーマンスを誇るALD3／ALD6シリーズ・バルブは、非常に優れたサイクル・ライフ、アクチュエーター部分を含めた高温対応を特徴としており、超高純度アプリケーションに適しています。
ALD3／ALD6シリーズ・バルブのダイヤフラムはコバルト基超合金製で、強度および耐食性に優れています。バルブ・ボディは316L VIM-VARステンレス鋼製で、超高純度アプリケーションに適しています。バルブ・シートは完全フッ素結合させた高純度PFA製で、幅広い耐薬品性を備えており、膨潤およびコンタミネーションに対する耐性に優れています。ALD3／ALD6シリーズ・バルブには、ノーマル・クローズ型およびノーマル・オープン型のエアー・アクチュエーターを取り付けることができ、さまざまな取り付け要件に合わせて多種多様な形状を選ぶことができます。
仕様
| 使用圧力範囲 | 真空～1.00 MPa |
| 破裂時 | >22.0 MPa |
| 作動圧力範囲 | 0.35～0.62 MPa |
| 使用温度範囲 | 0°～200°C |
| 流量係数（Cv値） | 0.27または0.62 |
| ボディ材質 | 316L VIM-VARステンレス鋼 |
| ダイヤフラム材質 | コバルト基超合金 |
| エンド・コネクション・タイプ（サイズ） | めすVCR®面シール継手（1/4～1/2 インチ）、おすVCR面シール継手（1/4～1/2 インチ）、集積モデル大流量用Cシール（1.125～1.5 インチ） |
ALDバルブに関して質問がありますか？
ALD3／ALD6シリーズ・バルブのカタログ
構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報につきましては、以下の資料をご参照ください。
원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
最適な合金で半導体製造の歩留まりを高める
重要な流体システム部品に適した金属材料を選定することで、エンドからエンドまでの製造の歩留まりを高め、長期的な収益性の向上を図る方法を紹介します。
材料選定に関するコラム記事を読む関連資料／コラム記事
一种全新的阀门：该阀可能改变半导体制造的三大原因
了解原子层沉积 (ALD) 阀门技术的前沿创新如何改变高科技半导体制造商的游戏规则。
问答：半导体制造的过去、现在与未来
了解半导体OEM设备商、微芯片制造商与流体系统解决方案提供商之间的协作如何使半导体市场在数十年来能够满足摩尔定律的要求以及未来的发展方向。
光纤设备制造商利用定制解决方案提高效率
自 20 世纪 80 年代以来，Rosendahl Nextrom 便与世伟洛克合作推动其业务的发展。了解有关使该公司超越其竞争对手并保持行业领先地位的解决方案的更多信息。
适合于科学前沿的可靠流体系统解决方案
了解为何芬兰稀释制冷机制造商 Bluefors 信赖世伟洛克提供的流体系统部件和解决方案，来助力于量子计算、实验物理学等领域。