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Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)

Swagelok® Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)

Dank ihrer äußerst langen Lebensdauer, der sehr schnellen Auslösung, hohen Durchflussraten, der Fähigkeit zur Wärmeimmersion sowie ihrer herausragenden Sauberkeit sorgen die ultrahochreinen Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD) von Swagelok für eine präzise Dosierung und eine maximale Chipausbeute in der modernen Halbleiterfertigung.

Informationen zu ALD-Ventilen anfordern

Seit Einführung der ALD-Ventiltechnologie arbeitet Swagelok zusammen mit Kunden aus der Halbleiterfertigung an neuen Lösungen, die mit den sich rasch ändernden Prozessanforderungen auf dem Markt Schritt halten können. Die fortschrittlichen ALD-Ventile überzeugen durch ein äußerst hohes Maß an Präzision, Konsistenz und Sauberkeit sowie eine lange Lebensdauer. ALD-Ventile von Swagelok® unterstützen effiziente Prozesse bei der Chipherstellung und helfen Ihnen, die mit der Atomlagenabscheidung verbundenen Herausforderungen zu meistern.

Vorteile unserer ultrahochreinen ALD-Ventile:

  • Äußerst lange Lebensdauer mit hohen Stellgeschwindigkeiten
  • Cv-Bereich von 0,27 bis 1,7
  • Temperaturbeständig bis 200 °C (392 °F) bei bestimmten Modellen
  • Elektronische oder optische Stellungssensoren für Stellantriebe optional verfügbar
  • Für ultrahochreine Anwendungen geeignet
  • Modulare Flächenmontage, Stumpfschweißfitting und VCR®-Verbindungen

Erfahren Sie mehr darüber, wie Sie Herausforderungen bei der Halbleiterherstellung mit ALD-Ventilen meistern

Catégories de vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)

Vannes très haute pureté pour applications haut débit, série ALD20

Vannes très haute pureté pour applications haut débit, série ALD20

Faites progresser la technologie du dépôt par couche atomique avec des débits 2 à 3 fois plus élevés qu’avec d’autres vannes ALD grâce à la vanne très haute pureté ALD20.

Vannes à membrane très haute pureté, séries ALD3 et ALD6

Vannes à membrane très haute pureté, séries ALD3 et ALD6

Conçues pour les applications de dépôt par couche atomique, les vannes à membrane ALD3 et ALD6 se caractérisent par une durée de vie très longue, un actionnement ultrarapide et une grande robustesse.

Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7

Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7

La vanne à membrane très haute pureté ALD7 Swagelok® offre la précision et la régularité nécessaires pour maximiser la production de puces dans le secteur des semi-conducteurs.

ALD-Ventile—Kataloge

Hier finden Sie ausführliche Produktinformationen zu Werkstoffen, Druckstufen, Auslegungstemperaturen, Optionen und Zubehör.

Montage eines ALD20-UHP-Ventils von Swagelok für den Reinraumeinsatz in der Halbleiterindustrie

Kleines Ventil mit großer Wirkung: Warum ein neues Ventil die Halbleiterproduktion verändern könnte

Erfahren Sie mehr darüber, wie die neueste Innovation in der ALD-Ventiltechnologie neue Möglichkeiten für Hersteller modernster Halbleiter schafft.

Neue Elemente aus dem Periodensystem in der Halbleiterfertigung nutzen

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