Клапаны Swagelok® для атомно-слоевого осаждения (ALD)
Клапаны Swagelok сверхвысокой чистоты для атомно-слоевого осаждения (ALD) обеспечивают сверхвысокий циклический срок службы, высокую скорость срабатывания, уровни расхода, термопогружение и исключительную чистоту, необходимые для прецизионного дозирования и максимального увеличения выхода годных кристаллов в современном полупроводниковом производстве.
Запросить информацию о клапанах ALDПознакомив мир с клапанами ALD, мы продолжаем тесно сотрудничать с изготовителями полупроводников с целью дальнейшей модернизации своих устройств, которые обеспечат высочайшие уровни точности, единообразия, чистоты и длительный срок службы, необходимые для соответствия стремительным темпам внедрения инноваций в отрасли. ALD-клапаны Swagelok® повышают эффективность производства микросхем и устраняют трудности, которые часто связаны с процессами атомно-слоевого осаждения.
Наши клапаны сверхвысокой степени чистоты для атомно-слоевого осаждения (ALD) обеспечивают:
- Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания
- Cv в диапазоне от 0,27 до 1,7
- Указанные модели обеспечивают устойчивую работу вплоть до 200°С (392°F)
- Вариант исполнения с электронным или оптическим датчиком положения привода
- Применение в условиях сверхвысокой чистоты
- Модульное торцевое соединение для монтажа на поверхность, торцевые соединения под приварку встык и VCR®
Catégories de vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)
Vannes très haute pureté pour applications haut débit, série ALD20
Faites progresser la technologie du dépôt par couche atomique avec des débits 2 à 3 fois plus élevés qu’avec d’autres vannes ALD grâce à la vanne très haute pureté ALD20.
Vannes à membrane très haute pureté, séries ALD3 et ALD6
Conçues pour les applications de dépôt par couche atomique, les vannes à membrane ALD3 et ALD6 se caractérisent par une durée de vie très longue, un actionnement ultrarapide et une grande robustesse.
Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7
La vanne à membrane très haute pureté ALD7 Swagelok® offre la précision et la régularité nécessaires pour maximiser la production de puces dans le secteur des semi-conducteurs.
Каталоги клапанов для атомно-слоевого осаждения (ALD)
Получите подробные сведения о продукции, в том числе о материалах изготовления, номинальных параметрах давления и температуры, вариантах исполнения и вспомогательных принадлежностях.
ALD 3, 6, and 7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available
하나의 신제품 밸브: 반도체 제조 기술을 바꿀 수 있는 세 가지 이유
혁신적인 최신 원자층 증착(ALD, Atomic Layer Deposition) 밸브 기술이 어떻게 첨단 기술 반도체 제조 시장을 변화시킬 수 있는지 소개합니다.
주기율표의 더 폭넓은 활용고객별 맞춤 선별 Swagelok 리소스
最適な合金で半導体製造の歩留まりを高める
重要な流体システム部品に適した金属材料を選定することで、エンドからエンドまでの製造の歩留まりを高め、長期的な収益性の向上を図る方法を紹介します。
Q&A：半導体製造の過去・現在・将来
半導体装置メーカー、マイクロデバイス・メーカー、流体システム・ソリューションのプロバイダーが連携することで、数十年間にわたっていかにして半導体市場はムーアの法則の要求に追いつくことができたのでしょうか。これからの展望と併せて紹介します。
光ファイバー装置メーカー、カスタマイズされたソリューションで効率アップを実現
ローゼンダール・ネクストロム社は、1980年代からスウェージロックのサポートを受けて、ビジネスを推進してきました。競合他社とは一線を画し、業界のトップを走り続けるローゼンダール・ネクストロム社のソリューション事例を紹介します。
最先端科学で信頼できる流体システム・ソリューション
フィンランドの希釈冷凍機メーカーであるブルーフォース社が、量子コンピューターや実験物理学などに欠かせない流体システム部品やソリューションに関して、スウェージロックに信頼を寄せている理由を紹介します。