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Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)

Swagelok® Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)

Dank ihrer äußerst langen Lebensdauer, der sehr schnellen Auslösung, hohen Durchflussraten, der Fähigkeit zur Wärmeimmersion sowie ihrer herausragenden Sauberkeit sorgen die ultrahochreinen Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD) von Swagelok für eine präzise Dosierung und eine maximale Chipausbeute in der modernen Halbleiterfertigung.

Informationen zu ALD-Ventilen anfordern

Seit Einführung der ALD-Ventiltechnologie arbeitet Swagelok eng mit OEMs und Halbleiterherstellern an der Weiterentwicklung von Dosierungslösungen für ALD-Prozesse – so helfen wir unseren Kunden dabei, mit dem rasanten Innovationstempo Schritt zu halten, Entwicklungszeiten zu verkürzen und die Chipausbeute in zunehmend komplexeren Prozessen zu optimieren. Alle ALD-Ventile im Produktportfolio von Swagelok® bieten die Präzision, Konsistenz, Sauberkeit und extrem hohe Lebensdauer, die für eine zuverlässige Leistung in anspruchsvollen Anwendungen unumgänglich ist.

Unsere Ventile sind auf eine präzise Durchflussregelung, schnelle Betätigung und hohe Temperaturbeständigkeit ausgelegt. Sie reduzieren Schwankungen in der Dosierung und tragen so zu einer höheren Wafer-Ausbeute sowie schnelleren Entwicklungszyklen bei – damit unsere Kunden die Technologien der nächsten Generation schneller auf den Markt bringen können.

Vorteile unserer ultrahochreinen ALD-Ventile:

  • Äußerst lange Lebensdauer mit hohen Stellgeschwindigkeiten
  • Durchflusskoeffizienten von 0,27 Cv bis 1,7 Cv
  • Temperaturbeständig bis 250 °C (482 °F) bei bestimmten Modellen
  • Optionale Einstellung der Durchflussleistung direkt vor Ort
  • Elektronische oder optische Stellungssensoren für Stellantriebe optional verfügbar
  • Geeignet für ultrahochreine Anwendungen; wahlweise aus Edelstahl 316L VIM-VAR oder Legierung 22 gefertigt
  • Modulare Flächenmontage, Stumpfschweißfitting und VCR®-Endanschlüsse verfügbar
  • Als Einzelkörper oder als additiv gefertigte Verteilerbaugruppe erhältlich

Wie das richtige ALD-Ventil zu einer verbesserten Prozesssteuerung beiträgt

Catégories de vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)

Vannes très haute pureté pour applications haut débit, série ALD20

Vannes très haute pureté pour applications haut débit, série ALD20

Faites progresser la technologie du dépôt par couche atomique avec des débits 2 à 3 fois plus élevés qu’avec d’autres vannes ALD grâce à la vanne très haute pureté ALD20.

Vannes à membrane très haute pureté, séries ALD3 et ALD6

Vannes à membrane très haute pureté, séries ALD3 et ALD6

Conçues pour les applications de dépôt par couche atomique, les vannes à membrane ALD3 et ALD6 se caractérisent par une durée de vie très longue, un actionnement ultrarapide et une grande robustesse.

Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7A

Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7A

La vanne à membrane très haute pureté ALD7 Swagelok® offre la précision et la régularité nécessaires pour maximiser la production de puces dans le secteur des semi-conducteurs.

Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7C

Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7C

Swagelok ALD7C ultrahigh-purity diaphragm valves deliver performance, speed, and reliability in the most advanced ALD applications.

ALD-Ventile – Kataloge

Hier finden Sie ausführliche Produktinformationen zu Werkstoffen, Druckstufen, Auslegungstemperaturen, Optionen und Zubehör.

Montage eines ALD20-UHP-Ventils von Swagelok für den Reinraumeinsatz in der Halbleiterindustrie

Einsatz neuer Vorprodukte mit optimierten Ventilen

Halbleiter-Vorprodukte der nächsten Generation bringen neue Herausforderungen in der Fertigung mit sich Mit einer optimierten Systemauslegung sowie der ALD-Ventiltechnologie sind Sie perfekt aufgestellt.

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Techniker in der Halbleiterfertigung bei der Prüfung eines Siliziumwafers
Optimierung kritischer Anwendungen für eine höhere Rentabilität in der Halbleiterfertigung

Durch die Konzentration auf wichtige Fluidsystemanwendungen können Risiken verringert, Kosten gesteuert und die Anlagenleistung insgesamt verbessert werden.

Techniker bei der Anpassung des industriellen Fluidsystems in einer Halbleiterfertigungsanlage.
Technisches Fachwissen vor Ort – für eine optimierte Anlagenleistung

Bei der Skalierung und Standardisierung ist die Expertise rund um Fluidsysteme ein wichtiger Hebel, um eine höhere Effizienz und Konsistenz zu erzielen.

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