Клапаны Swagelok® для атомно-слоевого осаждения (ALD)
Клапаны Swagelok сверхвысокой чистоты для атомно-слоевого осаждения (ALD) обеспечивают сверхвысокий циклический срок службы, высокую скорость срабатывания, уровни расхода, термопогружение и исключительную чистоту, необходимые для прецизионного дозирования и максимального увеличения выхода годных кристаллов в современном полупроводниковом производстве.
Запросить информацию о клапанах ALDПознакомив мир с клапанами ALD, мы продолжаем тесно сотрудничать с изготовителями полупроводников с целью дальнейшей модернизации своих устройств, которые обеспечат высочайшие уровни точности, единообразия, чистоты и длительный срок службы, необходимые для соответствия стремительным темпам внедрения инноваций в отрасли. ALD-клапаны Swagelok® повышают эффективность производства микросхем и устраняют трудности, которые часто связаны с процессами атомно-слоевого осаждения.
Наши клапаны сверхвысокой степени чистоты для атомно-слоевого осаждения (ALD) обеспечивают:
- Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания
- Cv в диапазоне от 0,27 до 1,7
- Указанные модели обеспечивают устойчивую работу вплоть до 200°С (392°F)
- Вариант исполнения с электронным или оптическим датчиком положения привода
- Применение в условиях сверхвысокой чистоты
- Модульное торцевое соединение для монтажа на поверхность, торцевые соединения под приварку встык и VCR®
Категории клапанов для атомно-слоевого осаждения (ALD)
Клапаны сверхвысокой степени чистоты для систем с высоким расходом, серия ALD20
Технология атомно-слоевого осаждения с величиной расхода в 2-3 раза выше, чем у других клапанов ALD благодаря клапану сверхвысокой степени чистоты ALD20.
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серии ALD3 и ALD6
Мембранные клапаны ALD3 и ALD6 обеспечивают сверхвысокий циклический срок службы, высокую скорость срабатывания и эффективную работу в системах атомно-слоевого осаждения.
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7
Мембранные клапаны Swagelok® ALD7 сверхвысокой степени чистоты обеспечивают точность и единообразие, необходимые для максимального увеличения выхода годных кристаллов в полупроводниковой промышленности.
Каталоги клапанов для атомно-слоевого осаждения (ALD)
Получите подробные сведения о продукции, в том числе о материалах изготовления, номинальных параметрах давления и температуры, вариантах исполнения и вспомогательных принадлежностях.
Характеристики: Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания; Cv в диапазоне от 0,27 до 0,62; возможность работы при температуре до 392 °F (200 °C) с термостойкими приводами; вариант исполнения с электронным датчиком положения привода; подходят для применения в сверхчистых системах с корпусом из нержавеющей стали 316L VIM-VAR; торцевые соединения VCR®, под приварку встык и модульные торцевые соединения для монтажа на поверхность.
Один новый клапан и три причины, которые позволят ему изменить производство полупроводников
Узнайте, как новейшие достижения в технологии ALD (атомно-слоевое осаждение) меняют ситуацию на рынке высокотехнологичного производства полупроводников.
Узнайте больше о периодической таблице関連資料／コラム記事
最適な合金で半導体製造の歩留まりを高める
重要な流体システム部品に適した金属材料を選定することで、エンドからエンドまでの製造の歩留まりを高め、長期的な収益性の向上を図る方法を紹介します。
Q&A：半導体製造の過去・現在・将来
半導体装置メーカー、マイクロデバイス・メーカー、流体システム・ソリューションのプロバイダーが連携することで、数十年間にわたっていかにして半導体市場はムーアの法則の要求に追いつくことができたのでしょうか。これからの展望と併せて紹介します。
光ファイバー装置メーカー、カスタマイズされたソリューションで効率アップを実現
ローゼンダール・ネクストロム社は、1980年代からスウェージロックのサポートを受けて、ビジネスを推進してきました。競合他社とは一線を画し、業界のトップを走り続けるローゼンダール・ネクストロム社のソリューション事例を紹介します。
Надежные решения в жидкостных и газовых системах для новых научно-исследовательских возможностей
Узнайте, почему финская компания-производитель криогенных рефрижераторов Bluefors доверяет компонентам и решениям Swagelok для жидкостных и газовых систем, которые способствуют развитию сферы квантовых вычислений, экспериментальной физики и других направлений.