Swagelok^® Atomic Layer Deposition (ALD) Valves

Swagelok ultrahigh-purity atomic layer deposition (ALD) valves offer the ultrahigh cycle life, high-speed actuation, flow rates, thermal immersibility, and extreme cleanliness needed to enable precise dosing and maximize chip yield in advanced semiconductor manufacturing applications.

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ALD用バルブを世界に送り出してからも、スウェージロックは半導体製造装置メーカーやファブと密接に協力して高度なALD用バルブ・テクノロジーを提供し、市場において急速に進む技術革新に対応する上で欠かせない非常に高いレベルの精度、一貫性、クレンリネス（清浄度）、優れたサイクル・ライフの実現に努めてきました。Swagelok ALD用バルブは、デバイスの生産効率の向上をサポートし、ALDプロセスにおける課題を克服します。

超高純度用ALD用バルブの特徴：

サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能
流量係数（C_v値）：0.27～1.7
最高200°Cまでの高温環境に対応（高温モデルのアクチュエーターの場合）
電気式インジケーターまたは光学式ポジション・センサー・オプション
超高純度アプリケーションに適したクレンリネス（清浄度）
集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、VCR^{®面シール継手エンド・コネクション}

ALD用バルブで課題を解決する

ALD（原子層蒸着）用バルブのカタログ

構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報につきましては、以下の資料をご参照ください。

Мембранные клапаны для напыления с точностью до атомного слоя ALD

Характеристики: Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания; Cv в диапазоне от 0,27 до 0,62; возможность работы при температуре до 392 °F (200 °C) с термостойкими приводами; вариант исполнения с электронным датчиком положения привода; подходят для применения в сверхчистых системах с корпусом из нержавеющей стали 316L VIM-VAR; торцевые соединения VCR®, под приварку встык и модульные торцевые соединения для монтажа на поверхность.

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