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ALD(原子層蒸着)用バルブ

Swagelok®ALD(原子層蒸着)用バルブ

Swagelok超高純度用ALD(原子層蒸着)用バルブは、非常に優れたサイクル・ライフ、高速作動、流量、高温対応性、極めて高い清浄度を備えており、最先端の半導体製造アプリケーションにおいて正確なプリカーサーの供給を実現し、デバイスの歩留まりを最大化します。

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Depuis le lancement par Swagelok de la technologie des vannes ALD, nous avons travaillé en étroite collaboration avec des clients du secteur des semi-conducteurs – fabricants de puces et fabricants d’outillage – pour créer des vannes ALD sophistiquées offrant les niveaux extrêmes de précision, de régularité et de propreté ainsi que la durée de vie nécessaires pour suivre le rythme rapide de l’innovation sur ce marché. Les vannes ALD Swagelok® peuvent accroître les rendements de la production de puces semi-conductrices et surmonter les difficultés souvent associées au procédé de dépôt par couche atomique.

Les caractéristiques de nos vannes ALD très haute pureté sont les suivantes :

  • Durée de vie très longue et actionnement ultra-rapide
  • Cv de 0,27 à 1,7
  • Utilisation à des températures allant jusqu’à 200°C (392°F) pour certains modèles
  • Dispositif électronique ou optique de détection de la position de l’actionneur proposé en option
  • Propreté adaptée aux applications de très haute pureté
  • Montage modulaire en surface, tube à souder bout à bout et raccords VCR®

Découvrir les problèmes résolus par les vannes ALD

ALD(原子層蒸着)用バルブのカテゴリー

大流量用超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD20シリーズ

大流量用超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD20シリーズ

原子層蒸着技術の進歩を支えるべく、超高純度用ALD20バルブは、他のALDバルブの2~3倍もの大流量に対応します。

超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD3 / ALD6シリーズ

超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD3 / ALD6シリーズ

ALD3/ALD6ダイヤフラム・バルブは、非常に優れたサイクル・ライフおよび高速作動という特徴を備えており、原子層蒸着アプリケーションにおいて高いパフォーマンスを発揮します。

超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD7シリーズ

超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD7シリーズ

Swagelok® ALD7超高純度用ダイヤフラム・バルブは、半導体製造アプリケーションにおいてデバイスの歩留まりを最大化するのに必要な精度および一貫性を備えています。

Catalogues des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)

Trouver des informations détaillées sur nos produits – matériaux de fabrication, pressions et températures nominales, options, accessoires, etc.

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