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Ultrahigh-Purity Valves for High-Flow Applications, ALD20 Series

Swagelok® Ultrahigh-Purity Valves for High-Flow Atomic Layer Processing Applications (ALD20 Series)

Swagelok ALD20 ultrahigh-purity valves offer a high flow capacity ideal for atomic layer deposition processes that require low-vapor pressure precursor gases.

Request ALD20 Valve Information

La válvula de alto caudal Swagelok® ALD20 de ultra alta pureza ofrece la fiabilidad y el rendimiento esperados de las válvulas ALD Swagelok®, a la vez que permite una estabilidad de temperatura y unas posibilidades de caudal antes inalcanzables. Permite a los fabricantes experimentar con diferentes procesos y productos químicos de baja presión de vapor, a fin de conseguir la deposición uniforme de gas necesaria para desarrollar la tecnología avanzada sin cambiar significativamente el proceso.

La válvula Swagelok ALD20, puede:

  • Suministrar un caudal de 1,2 Cv con el mismo tamaño (1,5 pulg.) que las válvulas ALD existentes, ofreciendo un rendimiento mejorado sin necesidad de modificar la instalación.
  • Suministrar un caudal aún mayor de 1,7 Cv con una variante estándar ligeramente más grande (1,75 pulg.)—el caudal más alto disponible actualmente para una válvula de ultra alta pureza y ciclo de vida útil ultra alto
  • Estar sumergida en una caja de gas desde 10°C (50°F) hasta 200°C (392°F), eliminando la necesidad de aislar el actuador durante el caldeado y mejorando la consistencia de la deposición.
  • Trabajar con una mayor resistencia a la corrosión con las opciones de cuerpo de acero inoxidable 316L VIM-VAR o aleación 22
  • Apoyar la operación limpia a lo largo de un ciclo de vida útil ultra-alto para mayor integridad del proceso gracias a un fuelle altamente pulido con un acabado de 5 μpulg. Ra.
  • Actuar repetidamente a alta velocidad (<10 ms) para obtener un caudal preciso y constante que cumpla los requisitos de dosificación.

También hay disponibles coeficientes de caudal personalizados

Vea Cómo la Válvula ALD20 Ayuda a Superar los Obstáculos del Procesado de Semiconductores

Especificaciones de la Válvula ALD20

Presión de Servicio Vacío hasta 1,4 bar (20 psig)
Presión de Rotura > 220 bar (3200 psig)
Presión de Actuación 4,9 a 6,2 bar (70 a 90 psig)
Temperatura 10 a 200°C (50 a 392°F)
Coeficiente de Caudal (Cv) 1,2 (MSM) o 1,7 (modelo recto)
Materiales del Cuerpo 316L VIM-VAR o Aleación 22
Material del Fuelle Aleación 22 (Acabado a 5 μpulg. Ra de rugosidad media)
Conexiones Finales Tipo (Tamaño): Accesorio Swagelok VCR hembra® (1/2 pulg), accesorio VCR macho giratorio (1/2 pulg), soldadura de tubo a tope de longitud de 0,50 pulg (1/2 pulg × 0,049 pulg), montaje modular superficial de alto caudal (1,5 pulg) con junta en C.

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