Swagelok® 대유량 원자층 가공 애플리케이션용 초고순도 밸브(ALD20 시리즈)
Swagelok ALD20 초고순도 밸브는 낮은 증기 압력 프리커서 가스가 필요한 원자층 증착(ALD) 공정에 이상적인 대유량 성능을 제공합니다.
ALD20 밸브 정보 요청La vanne très haute pureté ALD20 Swagelok® à débit élevé offre non seulement la fiabilité et l’efficacité attendues d’une vanne ALD Swagelok®, mais aussi la possibilité d’atteindre une stabilité de la température et des capacités de débit jusque-là inaccessibles. Elle permet aux fabricants d’expérimenter différents procédés et l’utilisation de précurseurs à faible pression de vapeur pour parvenir aux dépôts uniformes de gaz nécessaires au développement de technologies de pointe sans devoir apporter des modifications majeures aux procédés de fabrication.
La vanne ALD20 Swagelok :
- A un coefficient de débit (Cv) de 1,2 pour un encombrement identique (1,5 po) à celui des vannes ALD actuelles, offrant ainsi des performances accrues sans que le matériel en place ne doive être réorganisé
- Peut avoir un coefficient de débit encore plus élevé (Cv de 1,7) pour un encombrement légèrement supérieur (1,75 po) — soit le coefficient de débit le plus élevé actuellement disponible pour une vanne très haute pureté à durée de vie très longue.
- Peut être immergée complètement dans une unité d’alimentation en gaz à des températures comprises entre 10°C (50°F) et 200°C (392°F), ce qui élimine la nécessité d’isoler l’actionneur pendant le chauffage et améliore la régularité des dépôts
- Résiste plus efficacement à la corrosion grâce à un corps fabriqué en acier inoxydable 316L VIM-VAR ou en alliage 22
- Favorise une exploitation propre sur une très longue durée, contribuant ainsi à l’intégrité des procédés, grâce à un soufflet poli jusqu’à obtenir un Ra de 0,13 μm (5 µpo)
- Se caractérise par des déplacements reproductibles et ultrarapides (<10 ms) qui garantissent un débit régulier et précis répondant aux impératifs de dosage
Des coefficients de débit fixés par le client sont également possibles.
Caractéristiques techniques des vannes ALD20
| Pression de service | Du vide jusqu’à 1,4 bar (20 psig) |
| Pression d’éclatement | > 220 bar (3200 psig) |
| Pression d’actionnement | 4,9 à 6,2 bar (70 à 90 psig) |
| Température | 10 à 200°C (50 à 392°F) |
| Coefficient de débit (Cv) | 1,2 (montage modulaire en surface) ou 1,7 (config. droite) |
| Matériaux du corps | Acier inoxydable 316L VIM-VAR ou alliage 22 |
| Matériau du soufflet | Alliage 22 (Ra de 0,13 µm [5 μpo]) |
| Raccordements d’extrémité | Type (taille) : Raccord VCR® femelle (1/2 po), raccord VCR mâle tournant (1/2 po), tube à souder bout à bout, 0,50 po de long (1/2 po x 0,049 po), joint en C haut débit pour montage modulaire en surface (1,5 po) |
Besoin d’aide pour choisir une vanne ALD ?
Catalogues des vannes de la série ALD20
Trouver des informations détaillées sur nos produits – matériaux de fabrication, pressions et températures nominales, options, accessoires, etc.
원자층 증착 (ALD) 용 다이어프램 밸브 고속 개폐 시에도 매우 긴 수명 유지 ; Cv 범위 0.27 ~ 0.62; 고온용 개폐기로 200°C (392°F)까지 사용가능; 전자 개폐기 위치 감지 옵션; 초고순도 사양에 적합한 316L VIM-VAR 스텐레스강 몸체; VCR®, 튜브 맞대기 용접 및 블럭 조립식 연결구
Une nouvelle vanne et trois raisons pour lesquelles elle pourrait révolutionner le secteur des semi-conducteurs.
Découvrez comment la dernière innovation dans le domaine des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) est en train de changer la donne pour les fabricants de semi-conducteurs haute technologie.
Exploiter davantage le tableau périodiqueLes ressources de Swagelok sélectionnées pour vous
Improve Semiconductor Yield with Optimized Alloys
Discover how semiconductor fabricators can improve end-to-end production yields and improve long-term profitability by selecting the right metals for critical fluid system components.
Q&A: Semiconductor Manufacturing Past, Present, and Future
Find out how collaboration between semiconductor tool OEMs, microchip manufacturers, and fluid system solutions providers has enabled the semiconductor market to keep up with the demands of Moore’s Law for decades, and where we go from here.
Un fabricant d’équipements pour le secteur des fibres optiques gagne en efficience grâce à des solutions sur mesure
Depuis les années 1980, Rosendahl Nextrom s’appuie sur Swagelok pour développer ses activités. Découvrez les solutions qui ont permis à l’entreprise de devancer ses concurrents et de rester leader dans son secteur.
Des systèmes fluides pour des applications aux confins de la science
Découvrez pourquoi Bluefors, fabricant finlandais de réfrigérateurs à dilution, fait confiance aux composants et solutions Swagelok pour les systèmes fluides de réfrigérateurs nécessaires à l’informatique quantique, à la physique expérimentale et à bien d’autres applications.
