Swagelok® Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves for Atomic Layer Processing (ALD3 and ALD6 Series)
Swagelok ALD3 and ALD6 series diaphragm valves are used in semiconductor manufacturing tools to achieve the controlled dosing necessary for atomic layer deposition (ALD) processing. They offer ultrahigh cycle life, high-speed actuation, and flow coefficients up to 0.62.
Request ALD Valve InformationSwagelok®超高純度用ダイヤフラム・バルブ ALD3／ALD6シリーズを使用すると、半導体製造 時に蒸着チャンバー内でマイクロデバイスに1層ずつ堆積する際に使用するプリカーサー・ガスの信頼性を保ちつつ、高速供給を行うことができます。高パフォーマンスを誇るALD3／ALD6シリーズ・バルブは、非常に優れたサイクル・ライフ、アクチュエーター部分を含めた高温対応を特徴としており、超高純度アプリケーションに適しています。
ALD3／ALD6シリーズ・バルブのダイヤフラムはコバルト基超合金製で、強度および耐食性に優れています。バルブ・ボディは316L VIM-VARステンレス鋼製で、超高純度アプリケーションに適しています。バルブ・シートは完全フッ素結合させた高純度PFA製で、幅広い耐薬品性を備えており、膨潤およびコンタミネーションに対する耐性に優れています。ALD3／ALD6シリーズ・バルブには、ノーマル・クローズ型およびノーマル・オープン型のエアー・アクチュエーターを取り付けることができ、さまざまな取り付け要件に合わせて多種多様な形状を選ぶことができます。
仕様
| 使用圧力範囲 | 真空～1.00 MPa |
| 破裂時 | >22.0 MPa |
| 作動圧力範囲 | 0.35～0.62 MPa |
| 使用温度範囲 | 0°～200°C |
| 流量係数（Cv値） | 0.27または0.62 |
| ボディ材質 | 316L VIM-VARステンレス鋼 |
| ダイヤフラム材質 | コバルト基超合金 |
| エンド・コネクション・タイプ（サイズ） | めすVCR®面シール継手（1/4～1/2 インチ）、おすVCR面シール継手（1/4～1/2 インチ）、集積モデル大流量用Cシール（1.125～1.5 インチ） |
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ALD3／ALD6シリーズ・バルブのカタログ
構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報につきましては、以下の資料をご参照ください。
Характеристики: Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания; Cv в диапазоне от 0,27 до 0,62; возможность работы при температуре до 392 °F (200 °C) с термостойкими приводами; вариант исполнения с электронным датчиком положения привода; подходят для применения в сверхчистых системах с корпусом из нержавеющей стали 316L VIM-VAR; торцевые соединения VCR®, под приварку встык и модульные торцевые соединения для монтажа на поверхность.
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