Vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok®
Les vannes très haute pureté pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok ont une durée de vie très longue, s’actionnent très rapidement, permettent des débits élevés, peuvent être immergées à haute température et offrent une propreté extrême, autant d’éléments nécessaires pour obtenir un dosage précis et maximiser la production de puces semi-conductrices dans des applications de pointe du secteur des semi-conducteurs.
Demander des informations sur les vannes ALDDepuis le lancement par Swagelok de la technologie des vannes ALD, nous avons travaillé en étroite collaboration avec des clients du secteur des semi-conducteurs – fabricants de puces et fabricants d’outillage – pour créer des vannes ALD sophistiquées offrant les niveaux extrêmes de précision, de régularité et de propreté ainsi que la durée de vie nécessaires pour suivre le rythme rapide de l’innovation sur ce marché. Les vannes ALD Swagelok® peuvent accroître les rendements de la production de puces semi-conductrices et surmonter les difficultés souvent associées au procédé de dépôt par couche atomique.
Les caractéristiques de nos vannes ALD très haute pureté sont les suivantes :
- Durée de vie très longue et actionnement ultra-rapide
- Cv de 0,27 à 1,7
- Utilisation à des températures allant jusqu’à 200°C (392°F) pour certains modèles
- Dispositif électronique ou optique de détection de la position de l’actionneur proposé en option
- Propreté adaptée aux applications de très haute pureté
- Montage modulaire en surface, tube à souder bout à bout et raccords VCR®
Categorías de Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD)
Válvulas de Diafragma de Ultra Alta Pureza, Serie ALD7
La válvula de diafragma Swagelok® ALD7 de ultra alta pureza ofrece la precisión y consistencia necesarias para maximizar la producción de chips en las aplicaciones de fabricación de semiconductores.
Válvulas de Diafragma de Ultra Alta Pureza, Series ALD3 y ALD6
Las válvulas de diafragma ALD3 y ALD6 ofrecen una larga vida útil, una actuación de alta velocidad y un gran rendimiento en aplicaciones de deposición de capas atómicas.
Válvulas de Ultra Alta Pureza para Aplicaciones de Alto Caudal, Serie ALD20
Tecnología avanzada de deposición de capas atómicas con caudales 2-3 veces superiores a los de otras válvulas ALD gracias a la válvula ALD20 de ultra alta pureza.
Catalogues des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)
Trouver des informations détaillées sur nos produits – matériaux de fabrication, pressions et températures nominales, options, accessoires, etc.
ALD 3, 6, and 7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available
Une nouvelle vanne et trois raisons pour lesquelles elle pourrait révolutionner le secteur des semi-conducteurs.
Découvrez comment la dernière innovation dans le domaine des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) est en train de changer la donne pour les fabricants de semi-conducteurs haute technologie.
Exploiter davantage le tableau périodiqueRecursos Swagelok Elaborados para Vd.
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