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Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD)

Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD) Swagelok®

Las válvulas Swagelok de ultra alta pureza para deposición de capas atómicas (ALD) ofrecen la vida útil ultra alta, la alta velocidad de actuación, los caudales, la inmersión térmica y la extrema limpieza necesarias para permitir una dosificación precisa en aplicaciones avanzadas de fabricación de semiconductores.

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Nuestras válvulas ALD de alto rendimiento son un ejemplo clave de cómo Swagelok ha demostrado durante mucho tiempo su liderazgo técnico en la industria de fabricación de semiconductores. Desde que introdujo al mundo la tecnología de las válvulas ALD, Swagelok ha trabajado estrechamente con los clientes de la industria del semiconductor para entender sus necesidades, y luego crear válvulas ALD que ofrecen los niveles máximos de precisión, consistencia, limpieza y alto ciclo de vida útil necesarios para seguir el rápido ritmo de innovación del mercado. Nuestras válvulas de ultra alta pureza ALD se caracterizan por:

  • Ciclo de vida ultra-alto con actuación de alta velocidad
  • Cv de 0,27 a 1,7
  • Temperaturas hasta 200°C (392°F) para los modelos especificados.
  • Opción de detección de posición del actuador electrónica u óptica
  • Adecuadas para aplicaciones de ultra alta pureza con cuerpo de acero inoxidable 316L VIM-VAR
  • Conexiones finales para sistemas de montaje modular superficial, soldadura de tubo a tope y VCR®

Categorías

Válvulas de Diafragma de Ultra Alta Pureza, Serie ALD7

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