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Válvulas de Diafragma de Ultra Alta Pureza, Serie ALD7

Válvulas de Diafragma Swagelok® de Ultra Alta Pureza (Serie ALD7)

La válvula Swagelok ALD7 de ultra alta pureza ofrece la consistencia y capacidad de caudal, la velocidad del actuador, la temperatura y la limpieza necesaria para maximizar la producción de chips en las herramientas de fabricación de semiconductores nuevas o existentes.

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Un Rendimiento tan Consistente es Revolucionario

La válvula de diafragma Swagelok ALD7 de ultra alta pureza es la última innovación en tecnología de válvulas de deposición de capas atómicas (ALD), resultado de más de cinco décadas de apoyo de Swagelok a los fabricantes de semiconductores y de herramientas. Esta válvula de semiconductores de alto rendimiento permite a los fabricantes de herramientas y a los productores de chips, aumentar la producción de los chips viables y mejorar la rentabilidad al permitir la consistencia del caudal, la capacidad de caudal, la velocidad del actuador y el rendimiento a altas temperaturas necesarios para superar las limitaciones de los procesos de producción actuales.

Construidas para una Precisión Absoluta

Con un tiempo de respuesta más rápido, estabilidad térmica a altas temperaturas y una mayor resistencia a la corrosión, la ALD7 ofrece un rendimiento consistente de válvula a válvula, de dosis a dosis y de cámara a cámara a lo largo de un ciclo de vida ultra-alto.

  • La ALD7 ofrece una dosificación precisa durante millones de ciclos incluso en las aplicaciones de deposición de capas atómicas ALD más exigentes
  • La tecnología mejorada del actuador permite que esta válvula para semiconductores funcione más rápido que la tecnología estándar del sector, con un tiempo de respuesta de tan sólo 5 ms
  • El actuador puede someterse hasta 150°C, y la válvula está clasificada para 200°C, ofreciendo consistencia del caudal a altas temperaturas y en condiciones de vacío
  • El cuerpo de la válvula, fabricado en acero inoxidable Swagelok 316L VIM VAR de alta pureza, da a la ALD7 resistencia a los gases corrosivos

Mayor Rendimiento. Requiere Mínimas Reparaciones.

La ALD7 puede ofrecer una capacidad de caudal mejorada en comparación con las válvulas para semiconductores existentes, pero mantiene el mismo tamaño. Su diseño compacto ayuda a los fabricantes actualizar la productividad de las herramientas existentes sin realizar cambios significativos en el diseño.

  • La ALD7 puede entregar un coeficiente de caudal (Cv) hasta 0,7 y permite una dosificación precisa y repetible de cámara a cámara
  • La ALD7 mantiene el mismo espacio ocupado de 1,5 pulgadas que las válvulas ALD Swagelok estándar en la industria
  • La válvula cuenta con un aislante térmico integrado que acorta el perfil de la válvula y permite a los diseñadores de sistemas maximizar el espacio limitado cerca de la cámara de reacción

Especificaciones

Presión de ServicioVacío hasta 10,0 bar (145 psig)
Presión de Rotura> 220 bar (3200 psig)
Presión de Actuación4,1 a 8,27 bar (60 a 120 psig)
Temperatura de ServicioCuerpo de la válvula de 0°C (32°F) a 200°C (392°F)
Actuador de 0°C (32°F) a 150°C (302°F)
Coeficiente de Caudal 0,7 Cv
Materiales de CuerpoAcero inoxidable 316L VIM-VAR
Material del DiafragmaSuper aleación con base de cobalto
Conexiones Finales
TipoAccesorios VCR®
Soldadura a tope
de 1,5 pulg. de montaje modular superficial de alto caudal con junta C

Catálogos de Válvulas Series ALD7

Encuentre información detallada sobre los productos, incluidos los materiales de construcción, los valores nominales de presión y temperatura, las opciones y los accesorios.

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