text.skipToContent text.skipToNavigation
Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)

Swagelok® Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)

Dank ihrer äußerst langen Lebensdauer, der sehr schnellen Auslösung, hohen Durchflussraten, der Fähigkeit zur Wärmeimmersion sowie ihrer herausragenden Sauberkeit sorgen die ultrahochreinen Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD) von Swagelok für eine präzise Dosierung und eine maximale Chipausbeute in der modernen Halbleiterfertigung.

Informationen zu ALD-Ventilen anfordern

Seit Einführung der ALD-Ventiltechnologie arbeitet Swagelok eng mit OEMs und Halbleiterherstellern an der Weiterentwicklung von Dosierungslösungen für ALD-Prozesse – so helfen wir unseren Kunden dabei, mit dem rasanten Innovationstempo Schritt zu halten, Entwicklungszeiten zu verkürzen und die Chipausbeute in zunehmend komplexeren Prozessen zu optimieren. Alle ALD-Ventile im Produktportfolio von Swagelok® bieten die Präzision, Konsistenz, Sauberkeit und extrem hohe Lebensdauer, die für eine zuverlässige Leistung in anspruchsvollen Anwendungen unumgänglich ist.

Unsere Ventile sind auf eine präzise Durchflussregelung, schnelle Betätigung und hohe Temperaturbeständigkeit ausgelegt. Sie reduzieren Schwankungen in der Dosierung und tragen so zu einer höheren Wafer-Ausbeute sowie schnelleren Entwicklungszyklen bei – damit unsere Kunden die Technologien der nächsten Generation schneller auf den Markt bringen können.

Vorteile unserer ultrahochreinen ALD-Ventile:

  • Äußerst lange Lebensdauer mit hohen Stellgeschwindigkeiten
  • Durchflusskoeffizienten von 0,27 Cv bis 1,7 Cv
  • Temperaturbeständig bis 250 °C (482 °F) bei bestimmten Modellen
  • Optionale Einstellung der Durchflussleistung direkt vor Ort
  • Elektronische oder optische Stellungssensoren für Stellantriebe optional verfügbar
  • Geeignet für ultrahochreine Anwendungen; wahlweise aus Edelstahl 316L VIM-VAR oder Legierung 22 gefertigt
  • Modulare Flächenmontage, Stumpfschweißfitting und VCR®-Endanschlüsse verfügbar
  • Als Einzelkörper oder als additiv gefertigte Verteilerbaugruppe erhältlich

Wie das richtige ALD-Ventil zu einer verbesserten Prozesssteuerung beiträgt

Категории клапанов для атомно-слоевого осаждения (ALD)

Клапаны сверхвысокой степени чистоты для систем с высоким расходом, серия ALD20

Клапаны сверхвысокой степени чистоты для систем с высоким расходом, серия ALD20

Технология атомно-слоевого осаждения с величиной расхода в 2-3 раза выше, чем у других клапанов ALD благодаря клапану сверхвысокой степени чистоты ALD20.

Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серии ALD3 и ALD6

Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серии ALD3 и ALD6

Мембранные клапаны ALD3 и ALD6 обеспечивают сверхвысокий циклический срок службы, высокую скорость срабатывания и эффективную работу в системах атомно-слоевого осаждения.
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7A

Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7A

Мембранные клапаны Swagelok® ALD7 сверхвысокой степени чистоты обеспечивают точность и единообразие, необходимые для максимального увеличения выхода годных кристаллов в полупроводниковой промышленности.

Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7C

Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7C

Swagelok ALD7C ultrahigh-purity diaphragm valves deliver performance, speed, and reliability in the most advanced ALD applications.

ALD-Ventile – Kataloge

Hier finden Sie ausführliche Produktinformationen zu Werkstoffen, Druckstufen, Auslegungstemperaturen, Optionen und Zubehör.

Montage eines ALD20-UHP-Ventils von Swagelok für den Reinraumeinsatz in der Halbleiterindustrie

Einsatz neuer Vorprodukte mit optimierten Ventilen

Halbleiter-Vorprodukte der nächsten Generation bringen neue Herausforderungen in der Fertigung mit sich Mit einer optimierten Systemauslegung sowie der ALD-Ventiltechnologie sind Sie perfekt aufgestellt.

Mehr erfahren

Swagelok-Ressourcen für Sie

Techniker in der Halbleiterfertigung bei der Prüfung eines Siliziumwafers
Optimierung kritischer Anwendungen für eine höhere Rentabilität in der Halbleiterfertigung

Durch die Konzentration auf wichtige Fluidsystemanwendungen können Risiken verringert, Kosten gesteuert und die Anlagenleistung insgesamt verbessert werden.

Techniker bei der Anpassung des industriellen Fluidsystems in einer Halbleiterfertigungsanlage.
Technisches Fachwissen vor Ort – für eine optimierte Anlagenleistung

Bei der Skalierung und Standardisierung ist die Expertise rund um Fluidsysteme ein wichtiger Hebel, um eine höhere Effizienz und Konsistenz zu erzielen.

Этот процесс может занять несколько минут. Дождитесь его завершения и не покидайте страницу.