Swagelok^®超高純度用ダイヤフラム・バルブ、原子層プロセス用（ALD7シリーズ）

Conçue pour le procédé de dépôt par couche atomique (ALD), la vanne à membrane très haute pureté ALD7 de Swagelok^® permet aux fabricants d’outils destinés au secteur des semi-conducteurs et aux fabricants de puces d’augmenter le nombre de puces viables produites et d’accroître leur rentabilité grâce à son débit élevé et régulier, à son actionnement rapide et à son efficacité à haute température, autant de caractéristiques nécessaires pour dépasser les limites des procédés de fabrication actuels. En plus de sa durée de vie très longue, elle offre des performances constantes d’une vanne à l’autre, d’un dosage à l’autre et d’une chambre de réaction à l’autre.

La vanne ALD7 Swagelok :

• Permet un dosage précis sur des millions de cycles, même dans les applications les plus exigeantes et dispose d’un actionneur sophistiqué dont le temps de réponse peut descendre jusqu’à 5 ms
• Résiste aux gaz corrosifs grâce à l’acier inoxydable 316L VIM-VAR exclusif utilisé par Swagelok pour fabriquer le corps de la vanne
• Peut être chauffée jusqu’à 200°C tout en maintenant l’actionneur pneumatique en dessous de sa température maximale de fonctionnement de 150°C
• A un coefficient de débit (C_v) pouvant aller jusqu’à 0,7 [des modèles spécifiques (réglés en usine) sont également proposés avec un C_v de 0,5 à 0,7]
• Conserve le même encombrement que les vannes ALD standard Swagelok et possède un isolant thermique intégré qui permet de maximiser l’utilisation de l’espace à proximité de la chambre de réaction

Découvrir en détail les vannes ALD7

Caractéristiques techniques des vannes ALD7

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