Vannes à membrane très haute pureté Swagelok^® (série ALD7)

Des performances si constantes que c’en est révolutionnaire.

Résultat de plus de cinq décennies de collaboration avec les fabricants de semi-conducteurs, la vanne à membrane très haute pureté ALD7 Swagelok est la dernière innovation en matière de technologie de dépôt par couche atomique (ALD). Cette vanne haute performance pour semi-conducteurs permet aux fabricants d’outils et aux fabricants de puces d’augmenter le rendement des puces et d’améliorer leur rentabilité en offrant une capacité de débit élevée et régulière, une vitesse d’actionneur et des performances à haute température nécessaires pour supporter les limites des processus de production actuels.

Conçue pour une précision sans compromis

Dotée d’un temps de réponse plus rapide, d’une stabilité thermique à des températures élevées et d’une résistance à la corrosion améliorée, la série ALD7 offre des performances constantes d’une vanne à l’autre, de dose à dose et de chambre à chambre sur un nombre de cycles extrêmement élevé.

• La vanne série ALD7 permet un dosage précis sur des millions de cycles, même dans les applications de dépôt les plus exigeantes
• L’amélioration de la technologie de l’actionneur permet à cette vanne pour la fabrication de semi-conducteurs de fonctionner plus rapidement que la technologie standard de l’industrie, avec un temps de réponse d’à peine 5 ms
• Le corps de la vanne peut être chauffé jusqu’à 200°C tout en maintenant l’actionneur pneumatique en dessous de sa température maximale de fonctionnement de 150°C
• L’acier inoxydable 316L VIM-VAR exclusif utilisé par Swagelok pour fabriquer le corps de la vanne ALD7 confère à celle-ci une grande résistance aux gaz corrosifs

Des performances supérieures. Des modifications limitées.

La vanne ALD7 offre une capacité de débit améliorée par rapport aux vannes similaires existantes, mais garde le même encombrement. Sa structure compacte permet aux fabricants de semi-conducteurs d’améliorer la productivité des outils existants sans qu’il soit nécessaire de modifier sensiblement les procédés de fabrication.

• Avec un coefficient de débit (C_v) pouvant aller jusqu’à 0,7, la vanne ALD7 standard permet un dosage précis et reproductible d’une chambre de réaction à l’autre ; des modèles spécifiques (réglés en usine) sont également proposés avec un coefficient de débit de 0,5–0,7
• La vanne ALD7 conserve le même encombrement de 1,5 po que les vannes ALD standard Swagelok
• La vanne comporte un isolant thermique intégré, ce qui rend la vanne plus compacte et permet aux concepteurs de systèmes d’utiliser au maximum le peu d’espace disponible à proximité de la chambre de réaction

Caractéristiques techniques