Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD) Swagelok®
Las válvulas Swagelok de ultra alta pureza para deposición de capas atómicas (ALD) ofrecen vida útil ultra alta, alta velocidad de actuación, los caudales, la inmersión térmica y la extrema limpieza necesarias para permitir una dosificación precisa y maximizar la producción de chips en aplicaciones avanzadas de fabricación de semiconductores.
Más Información sobre Válvulas ALDDesde que introdujimos en el mercado mundial las válvulas ALD, hemos trabajado conjuntamente con los fabricantes de herramientas para semiconductores y las plantas para ofrecer una tecnología avanzada de válvulas ALD que ofrezca los niveles extremos de precisión, consistencia, limpieza y larga vida útil necesarios para seguir el rápido ritmo de innovación del mercado. Las válvulas ALD Swagelok®pueden apoyar el incremento de la eficiencia en la producción de los chips y superar los retos que suelen ir asociados a los procesos ALD.
Nuestras válvulas de ultra alta pureza ALD se caracterizan por:
- Ciclo de vida ultra-alto con actuación de alta velocidad
- Cv desde 0,27 hasta 1,7
- Capacidad de temperatura hasta 200°C (392°F) para modelos específicos.
- Opción de detección de posición del actuador electrónica u óptica
- Idoneidad de limpieza para las aplicaciones de ultra alta pureza
- Conexiones finales para sistemas de montaje modular superficial, soldadura de tubo a tope y VCR®
Catégories de vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)
Vannes très haute pureté pour applications haut débit, série ALD20
Faites progresser la technologie du dépôt par couche atomique avec des débits 2 à 3 fois plus élevés qu’avec d’autres vannes ALD grâce à la vanne très haute pureté ALD20.
Vannes à membrane très haute pureté, séries ALD3 et ALD6
Conçues pour les applications de dépôt par couche atomique, les vannes à membrane ALD3 et ALD6 se caractérisent par une durée de vie très longue, un actionnement ultrarapide et une grande robustesse.
Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7A
La vanne à membrane très haute pureté ALD7 Swagelok® offre la précision et la régularité nécessaires pour maximiser la production de puces dans le secteur des semi-conducteurs.
Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7C
Swagelok ALD7C ultrahigh-purity diaphragm valves deliver performance, speed, and reliability in the most advanced ALD applications.
原子層蒸着（ALD）用バルブのカタログ
構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報につきましては、以下の資料をご参照ください。
ALD3, ALD6, ALD7A, and ALD7C Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 482°F (250°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available
バルブを最適化することで新しい半導体プリカーサーを導入する
次世代半導体プリカーサーは、製造における新たな課題を突きつけています。最適化されたシステム設計およびALD用バルブ技術を導入することで、常に業界をリードし続けることができます。
詳細はこちら関連資料／コラム記事
アプリケーションを最適化し、半導体ファブの収益性を高める
主要な流体システムのアプリケーションをターゲットにすることで、リスクの低減、コストの抑制、ファブの全体的なパフォーマンス向上を実現します。
現場でのエンジニアリング専門知識を活かしてファブのパフォーマンスをサポートする
ファブの規模拡大や標準化が進む中、フィールド・エンジニアリングを通じて重要な専門知識を提供することで、効率性および一貫性の向上を実現します。