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Gérer les difficultés associées aux gaz précurseurs de nouvelle génération dans la fabrication des semi-conducteurs Auteur : Frank Horvat, chargé de recherche senior chez Swagelok Alors que l’intelligence artificielle (IA) progresse de jour en jour, de nouvelles demandes apparaissent qui entraînen...

Comment une vanne parfaitement adaptée peut améliorer la précision et la constance du procédé de dépôt par couche atomique Le défi consistant à maximiser la production tout en gérant le procédé toujours plus complexe et précis utilisé pour fabriquer des micropuces de dernière génération, pousse les...

Des innovations pour fabriquer les semi-conducteurs de nouvelle génération Masroor Malik Avec l’essor rapide des technologies intelligentes, la fabrication des semi-conducteurs a dû passer de l’échelle de la microélectronique à celle de l’atome. Comme l’a montré le salon SEMICON West de cette anné...

Comment résoudre les principaux problèmes inhérents aux procédés ALD et ALE L’extrême précision des procédés de fabrication des semi-conducteurs exige des composants de systèmes fluides possédant certaines qualités essentielles. Les procédés de dépôt par couche atomique (ou ALD pour atomic layer de...

Comment gérer la vaporisation dans un système d’analyse  12 mars 2019 | Jon Kestner Il n’est ni facile, ni toujours possible de vaporiser un échantillon. Cependant, si l'analyseur de votre système d’échantillonnage requiert un gaz alors que votre échantillon est liquide, la seule possibilité consi...