世伟洛克® 原子层沉积 (ALD) 阀
世伟洛克超高纯原子层沉积 (ALD) 阀具有超高循环寿命、高速执行、流量、热浸没和超高洁净度，可在先进半导体制造应用中实现精确进料并尽可能地提高芯片产量。
索取 ALD 阀门信息ALD 阀门问世以来，我们一直与半导体工具 OEM 和晶圆厂密切合作，提供的先进 ALD 阀门技术具有超高的精度、一致性、洁净度和高循环寿命，是紧跟市场快速创新步伐所必需的。世伟洛克® ALD 阀门可支持芯片生产效率的提高，并克服 ALD 工艺通常面临的挑战。
我们的 ALD 超高纯阀具有以下特点：
- 快速动作下的超高循环寿命
- Cv 范围从 0.27 至 1.7
- 指定型号的承温能力高达 392°F (200°C)
- 电子或光学执行机构位置传感选购件
- 洁净度适合超高纯应用
- 模块化表面安装、卡套管对焊和 VCR® 端接
Categorías de Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD)
Válvulas de Diafragma de Ultra Alta Pureza, Serie ALD7
La válvula de diafragma Swagelok® ALD7 de ultra alta pureza ofrece la precisión y consistencia necesarias para maximizar la producción de chips en las aplicaciones de fabricación de semiconductores.
Válvulas de Diafragma de Ultra Alta Pureza, Series ALD3 y ALD6
Las válvulas de diafragma ALD3 y ALD6 ofrecen una larga vida útil, una actuación de alta velocidad y un gran rendimiento en aplicaciones de deposición de capas atómicas.
Válvulas de Ultra Alta Pureza para Aplicaciones de Alto Caudal, Serie ALD20
Tecnología avanzada de deposición de capas atómicas con caudales 2-3 veces superiores a los de otras válvulas ALD gracias a la válvula ALD20 de ultra alta pureza.
原子层沉积 (ALD) 阀目录
查找详细的产品信息，包括结构材料、额定压力和温度、选购件及配件。
ALD 3, 6, and 7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available
世伟洛克为您精心准备的产品、服务和解决方案
利用优化的合金提高半导体制造良率
了解半导体制造商如何通过为关键流体系统组件选择合适的金属材料，提高端到端制造良率并提高长期盈利能力。
Q&A：半導体製造の過去・現在・将来
半導体装置メーカー、マイクロデバイス・メーカー、流体システム・ソリューションのプロバイダーが連携することで、数十年間にわたっていかにして半導体市場はムーアの法則の要求に追いつくことができたのでしょうか。これからの展望と併せて紹介します。
光ファイバー装置メーカー、カスタマイズされたソリューションで効率アップを実現
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最先端科学で信頼できる流体システム・ソリューション
フィンランドの希釈冷凍機メーカーであるブルーフォース社が、量子コンピューターや実験物理学などに欠かせない流体システム部品やソリューションに関して、スウェージロックに信頼を寄せている理由を紹介します。