Swagelok® Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)
Dank ihrer äußerst langen Lebensdauer, der sehr schnellen Auslösung, hohen Durchflussraten, der Fähigkeit zur Wärmeimmersion sowie ihrer herausragenden Sauberkeit sorgen die ultrahochreinen Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD) von Swagelok für eine präzise Dosierung und eine maximale Chipausbeute in der modernen Halbleiterfertigung.
Informationen zu ALD-Ventilen anfordernSince introducing the world to ALD valves, we have worked closely with semiconductor tool OEMs and fabs to deliver advanced ALD valve technology that provides the extreme levels of precision, consistency, cleanliness, and high cycle life necessary to keep up with the quick pace of innovation in the marketplace. Swagelok® ALD valves can support increased chip production efficiency and overcome the challenges that are often associated with ALD processes.
Our ALD ultrahigh-purity valves feature:
- Ultrahigh cycle life with high-speed actuation
- Cv ranging from 0.27 to 1.7
- Temperature capability up to 392°F (200°C) for specified models
- Electronic or optical actuator position-sensing option
- Cleanliness suitability for ultrahigh-purity applications
- Modular surface mount, tube butt weld, and VCR® end connections
ALD（原子層蒸着）用バルブのカテゴリー
超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD3 / ALD6シリーズ
ALD3／ALD6ダイヤフラム・バルブは、非常に優れたサイクル・ライフおよび高速作動という特徴を備えており、原子層蒸着アプリケーションにおいて高いパフォーマンスを発揮します。
超高純度用ダイヤフラム・バルブ、ALD7シリーズ
Swagelok® ALD7超高純度用ダイヤフラム・バルブは、半導体製造アプリケーションにおいてデバイスの歩留まりを最大化するのに必要な精度および一貫性を備えています。
Atomic Layer Deposition (ALD) Valve Catalogs
Locate detailed product information, including materials of construction, pressure and temperature ratings, options, and accessories.
■ サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能／■ 流量係数（Cv 値）：0.27 から1.7 まで／■ 最高使用温度：200°C（ALD20 の場合）／■ オプション：電気式インジケーター、光学式ポジション・センサーなど／■ 超高純度用途に適した316L VIM-VAR ステンレス鋼製ボディ／■ エンド・コネクション・タイプ：集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、VCR ® メタル・ガスケット式面シール継手
Une nouvelle vanne et trois raisons pour lesquelles elle pourrait révolutionner le secteur des semi-conducteurs.
Découvrez comment la dernière innovation dans le domaine des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) est en train de changer la donne pour les fabricants de semi-conducteurs haute technologie.
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