Swagelok® Atomic Layer Deposition (ALD) Valves
Swagelok ultrahigh-purity atomic layer deposition (ALD) valves offer the ultrahigh cycle life, high-speed actuation, flow rates, thermal immersibility, and extreme cleanliness needed to enable precise dosing and maximize chip yield in advanced semiconductor manufacturing applications.
Request ALD Valve InformationSince introducing the world to ALD valves, we have worked closely with semiconductor tool OEMs and fabs to deliver advanced ALD valve technology that provides the extreme levels of precision, consistency, cleanliness, and high cycle life necessary to keep up with the quick pace of innovation in the marketplace. Swagelok® ALD valves can support increased chip production efficiency and overcome the challenges that are often associated with ALD processes.
Our ALD ultrahigh-purity valves feature:
- Ultrahigh cycle life with high-speed actuation
- Cv ranging from 0.27 to 1.7
- Temperature capability up to 392°F (200°C) for specified models
- Electronic or optical actuator position-sensing option
- Cleanliness suitability for ultrahigh-purity applications
- Modular surface mount, tube butt weld, and VCR® end connections
ALD-Ventile – Kategorien
Ultrahochreine Membranventile - Serien ALD3 und ALD6
Die ALD3- und ALD6-Membranventile bieten eine extrem hohe Lebensdauer, schnelle Betätigung und hohe Leistung bei der Atomlagenabscheidung.
Ultrahochreine Membranventile für Anwendungen mit hohem Durchfluss, Serie ALD20
Das fortschrittliche, ultrahochreine ALD20-Ventil bietet 2–3 mal höhere Durchflussraten als andere ALD-Ventile.
Ultrahochreine Membranventile, Serie ALD7
Das ALD7-Membranventil für ultrahochreine Anwendungen bietet präzise und konsistente Ergebnisse für eine maximale Chipausbeute in der Halbleiterfertigung.
Atomic Layer Deposition (ALD) Valve Catalogs
Locate detailed product information, including materials of construction, pressure and temperature ratings, options, and accessories.
Besonders hohe Zykluslebensdauer bei hoher Betätigungsgeschwindigkeit; Cv-Bereich von 0,27 bis 0,62; Mit Hochtemperatursteuerköpfen einsetzbar bis 200°C (392°F); Optionaler elektronischer Steuerkopf-Stellungsmelder; Geeignet für ultrahochreine Anwendungen mit Körper aus Edelstahl 316L VIM-VAR; VCR®, Stumpfschweißenden und modulare Bauteile für Flächenbefestigung
One New Valve: Three Reasons It Could Change Semiconductor Manufacturing
Find out how the latest innovation in atomic layer deposition (ALD) valve technology is changing the game for high-tech semiconductor manufacturers.
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