Высокотемпературные погружные мембранные клапаны Swagelok® (серия DH)
Высокотемпературные погружные мембранные клапаны Swagelok серии DH обеспечивают высокую скорость срабатывания и рассчитаны на оптимальную производительность для высокотемпературных процессов.
Запросить дополнительную информациюВысокотемпературные погружные мембранные клапаны Swagelok® серии DH предназначены для применения в системах, в которых клапан должен находиться полностью в высокотемпературной среде высокой степени чистоты, например в системах с атомно-слоевым осаждением и системах доставки прекурсоров. Клапаны оснащены полностью закрытым седлом из высокочистого перфторалкокси (PFA), которое обеспечивает широкий диапазон химической совместимости, а также превосходную сопротивляемость вздутию и загрязнению. Беспрепятственный путь прохождения потока в корпусе сокращает до минимума зоны скопления среды и максимально повышает пропускную способность.
Коэффициенты расхода до 0,60, различные торцевые соединения на 1/4 и 3/8 дюйма, а также модели с пневматическим и ручным приводом позволяют удовлетворить широкий спектр текущих потребностей. «Нормально закрытый» привод способен открыть или закрыть клапан менее чем за 5 мс, при этом сам клапан рассчитан на оптимальную работу при температуре 220°C (428°F).
Хотите узнать больше о высокотемпературных погружных клапанах серии DH?
Каталоги высокотемпературных погружных мембранных клапанов
Получите подробные сведения о продукции, в том числе о материалах изготовления, номинальных параметрах давления и температуры, вариантах исполнения и вспомогательных принадлежностях.
Swagelok thermal-immersion diaphragm valves offer high-speed actuation and are designed for optimum performance at 220 degrees C (428 degrees F) for high-temperature processes.
関連資料／コラム記事
産業用流体システムに適したバルブを選定する方法
産業用流体システムやサンプリング・システムの設計アプリケーションに適したバルブを選定するためのSTAMPEDメソッドの適用方法を紹介します。
Q&A：半導体製造の過去・現在・将来
半導体装置メーカー、マイクロデバイス・メーカー、流体システム・ソリューションのプロバイダーが連携することで、数十年間にわたっていかにして半導体市場はムーアの法則の要求に追いつくことができたのでしょうか。これからの展望と併せて紹介します。
最適な合金で半導体製造の歩留まりを高める
重要な流体システム部品に適した金属材料を選定することで、エンドからエンドまでの製造の歩留まりを高め、長期的な収益性の向上を図る方法を紹介します。
1つの新しいバルブが半導体製造を変える3つの理由
今回は、原子層蒸着（ALD）バルブの最新テクノロジーが、ハイテク半導体メーカーにもたらす影響について紹介します。