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Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD)

Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD) Swagelok®

Las válvulas Swagelok de ultra alta pureza para deposición de capas atómicas (ALD) ofrecen vida útil ultra alta, alta velocidad de actuación, los caudales, la inmersión térmica y la extrema limpieza necesarias para permitir una dosificación precisa y maximizar la producción de chips en aplicaciones avanzadas de fabricación de semiconductores.

Más Información sobre Válvulas ALD

ALD用バルブ を世界に送り出してからも、スウェージロックは半導体製造装置メーカーやファブと密接に協力して高度なALD用バルブ・テクノロジーを提供し、市場において急速に進む技術革新に対応する上で欠かせない非常に高いレベルの精度、一貫性、クレンリネス(清浄度)、優れたサイクル・ライフの実現に努めてきました。Swagelok ALD用バルブは、デバイスの生産効率の向上をサポートし、ALDプロセスにおける課題を克服します。

超高純度用ALD用バルブの特徴:

  • サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能
  • 流量係数(Cv値):0.27~1.7
  • 最高200°Cまでの高温環境に対応(高温モデルのアクチュエーターの場合)
  • 電気式インジケーターまたは光学式ポジション・センサー・オプション
  • 超高純度アプリケーションに適したクレンリネス(清浄度)
  • 集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、VCR®面シール継手エンド・コネクション

ALD用バルブで課題を解決する

Atomic Layer Deposition (ALD) Valves Categories

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