Vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) Swagelok®
Les vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) ultra-haute pureté Swagelok offrent un nombre de cycles ultra-élevé, un actionnement à grande vitesse, des débits, une immersibilité thermique et une propreté extrême, nécessaires pour permettre un dosage précis dans les applications de fabrication de semi-conducteurs avancées.
Demander un complément d’informationNos vannes ALD haute performance illustrent parfaitement la manière dont Swagelok a longtemps fait preuve de leadership technique réactif dans l’industrie de la fabrication de semi-conducteurs. Depuis l’introduction au monde de la technologie des vannes ALD, Swagelok a travaillé en étroite collaboration avec les clients de l’industrie des semi-conducteurs pour comprendre leurs besoins, puis créer des vannes ALD qui offrent les niveaux extrêmes de précision, de constance, de propreté et de nombre de cycles élevé nécessaires pour suivre le rythme rapide de l’innovation sur le marché. Les caractéristiques de nos vannes ALD ultra-haute pureté sont les suivantes :
- Un nombre de cycle ultra-élevé avec un actionnement ultra-rapide
- Coefficients de débit de 0,27 à 1,7
- Entièrement immersibles jusqu’à 200 °C (392 °F) avec actionneurs thermiques
- Compatibles avec les applications à ultra-haute pureté grâce à un corps en acier inoxydable 316L VIM-VAR
- Montage modulaire en surface, tube à souder bout à bout et raccords d’extrémité VCR® Swagelok
- Dispositif électronique ou optique de détection de la position de l’actionneur proposé en option
Catégories
Vannes très haute pureté pour applications haut débit, série ALD20
Faites progresser la technologie du dépôt par couche atomique avec des débits 2 à 3 fois plus élevés qu’avec d’autres vannes ALD grâce à la vanne très haute pureté ALD20.
Vannes à membrane très haute pureté, séries ALD3 et ALD6
Conçues pour les applications de dépôt par couche atomique, les vannes à membrane ALD3 et ALD6 se caractérisent par une durée de vie très longue, un actionnement ultrarapide et une grande robustesse.
Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7
La vanne à membrane très haute pureté ALD7 Swagelok® offre la précision et la régularité nécessaires pour maximiser la production de puces dans le secteur des semi-conducteurs.
Catalogues des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)
Trouver des informations détaillées sur nos produits – matériaux de fabrication, pressions et températures nominales, options, accessoires, etc.
ALD 3, 6, and 7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available
Une nouvelle vanne : Trois raisons pour lesquelles elle pourrait révolutionner le secteur des semi-conducteurs
Découvrez comment la dernière innovation dans le domaine des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD) est en train de changer la donne pour les fabricants de semi-conducteurs haute technologie.
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