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Atomic Layer Deposition (ALD) Valves

Swagelok® Atomic Layer Deposition (ALD) Valves

Swagelok ultrahigh-purity atomic layer deposition (ALD) valves offer the ultrahigh cycle life, high-speed actuation, flow rates, thermal immersibility, and extreme cleanliness needed to enable precise dosing and maximize chip yield in advanced semiconductor manufacturing applications.

Request ALD Valve Information

Since introducing the world to ALD valves, we have worked closely with semiconductor tool OEMs and fabs to deliver advanced ALD valve technology that provides the extreme levels of precision, consistency, cleanliness, and high cycle life necessary to keep up with the quick pace of innovation in the marketplace. Swagelok® ALD valves can support increased chip production efficiency and overcome the challenges that are often associated with ALD processes.

Our ALD ultrahigh-purity valves feature:

  • Ultrahigh cycle life with high-speed actuation
  • Cv ranging from 0.27 to 1.7
  • Temperature capability up to 392°F (200°C) for specified models
  • Electronic or optical actuator position-sensing option
  • Cleanliness suitability for ultrahigh-purity applications
  • Modular surface mount, tube butt weld, and VCR® end connections

See How ALD Valves Solve Challenges

Catégories de vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)

Vannes très haute pureté pour applications haut débit, série ALD20

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Vannes à membrane très haute pureté, séries ALD3 et ALD6

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Vannes à membrane très haute pureté, série ALD7

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Catalogues des vannes pour dépôt par couche atomique (ALD)

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