
Мембранные клапаны Swagelok® сверхвысокой степени чистоты для атомно-слоевого осаждения (серия ALD7)
Клапаны Swagelok серии ALD7 сверхвысокой степени чистоты обеспечивают стабильный расход и пропускную способность, быструю отработку, температурные параметры и уровень чистоты, помогающие увеличить выпуск чипов при использовании новых или имеющихся инструментов для производства полупроводников.
Запросить информацию о клапанах ALD7Мембранный клапан Swagelok® серии ALD7 для атомно-слоевого осаждения (ALD) дает возможность производителям полупроводников и изготовителям микросхем увеличить выход годной продукции, повысить рентабельность, обеспечить постоянство рабочего процесса при высоких температурах, что необходимо для преодоления ряда технических ограничений. Клапаны обеспечивают стабильность характеристик всех клапанов, во всех камерах и в дозировании в течение сверхвысокого циклического срока службы.
Клапан ALD7 от Swagelok:
- Обеспечивает быстрое и точное дозирование в течение миллионов циклов для самых строгих требований, и отличается усовершенствованной технологией со временем отклика всего 5 мс
- Устойчив к воздействию агрессивных газов благодаря корпусу из запатентованной сверхчистой нержавеющей стали Swagelok 316L VIM-VAR
- Возможность нагрева до 200°C при сохранении максимальной рабочей температуры пневматического привода ниже 150°C
- Обеспечивает коэффициент расхода (Cv) до 0,7 (доступны версии с индивидуальной заводской настройкой, обеспечивающие коэффициент расхода 0,5–0,7 Cv)
- Размеры аналогичны стандартным ALD-клапанам Swagelok, при этом оснащен встроенным термоизолятором для максимального использования ограниченного пространства возле реакционной камеры
Клапаны ALD7, увеличенное изображение
Технические характеристики клапана ALD7
Рабочее давление | От вакуума до 145 psig (10,0 бар ман) |
Давление разрыва | > 3200 psig (220 бар ман) |
Давление срабатывания | От 60 до 120 psig (от 4,1 до 8,27 бар ман) |
Номинальная температура | Стандартный корпус клапана: от 32°F (0°C) до 392°F (200°C) |
Коэффициент расхода | Стандартный коэффициент расхода 0,7 Cv (устанавливается в заводских условиях) |
Материалы корпуса | Нерж. сталь 316L VIM-VAR |
Материал мембраны | Специальный сплав на основе кобальта |
Торцевые соединения | Тип: Фитинги VCR®, соединение под приварку встык, C-образное модульное уплотнение размером 1,5 дюйма с высоким расходом для монтажа на поверхность |
Есть вопросы о клапанах ALD?
Каталоги клапанов серии ALD7
Получите подробные сведения о продукции, в том числе о материалах изготовления, номинальных параметрах давления и температуры, вариантах исполнения и вспомогательных принадлежностях.
ALD 3, 6, and 7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available

Способы решения основных проблем, связанных с обработкой полупроводников методом атомно-слоевого осаждения (ALD) и атомно-слоевого травления (ALE)
Для процесса обработки полупроводников методами атомно-слоевого осаждения (ALD) и атомно-слоевого травления (ALE) характерны определенные проблемы и сложности. Узнайте, как правильный выбор технологических клапанов поможет вам справиться с ними.
Выберите подходящие клапаны для решения задач в области атомно-слоевого осаждения (ALD)Ресурсы Swagelok специально для вас

최적의 합금으로 반도체 수율 향상
반도체 제조업체가 어떻게 하면 핵심 유체 시스템 부품에 적절한 합금을 선택하여 종합적인 생산 수율과 장기 수익성을 높일 수 있는지 알아보십시오.

Q&A: 반도체 제조의 과거와 현재, 그리고 미래
반도체 장비 OEM, 마이크로칩 제조업체, 유체 시스템 솔루션 제공업체가 어떻게 지난 몇십 년 동안 협력을 통해 반도체 시장이 무어의 법칙에 따른 수요를 충족하도록 해왔으며, 이제부터는 어떻게 해야 할 것인지 알아보십시오.

광섬유 장비 제조업체가 맞춤형 솔루션으로 효율을 높인 사례
로젠달 넥스트롬(Rosendahl Nextrom)은 1980년대부터 Swagelok에 의존하여 사업을 확장해왔습니다. 이 회사가 경쟁업체보다 앞서며 업계 리더 지위를 유지하도록 해준 솔루션에 대해 자세히 알아보십시오.

첨단 과학 분야에 필요한 신뢰성 높은 유체 시스템 솔루션
핀란드의 희석 냉동기 제조업체인 블루포스(Bluefors)가 양자 컴퓨팅과 실험물리학 등을 구현하는 데 Swagelok의 유체 시스템 부품과 솔루션을 신뢰하는 이유를 소개합니다.