text.skipToContent text.skipToNavigation

Клапаны для атомно-слоевого осаждения (ALD)

Клапаны Swagelok^® для атомно-слоевого осаждения (ALD)

Клапаны Swagelok сверхвысокой чистоты для атомно-слоевого осаждения (ALD) обеспечивают сверхвысокий циклический срок службы, высокую скорость срабатывания, уровни расхода, термопогружение и исключительную чистоту, необходимые для прецизионного дозирования и максимального увеличения выхода годных кристаллов в современном полупроводниковом производстве.

Запросить информацию о клапанах ALD

Познакомив мир с клапанами ALD, мы продолжаем тесно сотрудничать с изготовителями полупроводников с целью дальнейшей модернизации своих устройств, которые обеспечат высочайшие уровни точности, единообразия, чистоты и длительный срок службы, необходимые для соответствия стремительным темпам внедрения инноваций в отрасли. ALD-клапаны Swagelok^® повышают эффективность производства микросхем и устраняют трудности, которые часто связаны с процессами атомно-слоевого осаждения.

Наши клапаны сверхвысокой степени чистоты для атомно-слоевого осаждения (ALD) обеспечивают:

Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания
C_v в диапазоне от 0,27 до 1,7
Указанные модели обеспечивают устойчивую работу вплоть до 200°С (392°F)
Вариант исполнения с электронным или оптическим датчиком положения привода
Применение в условиях сверхвысокой чистоты
Модульное торцевое соединение для монтажа на поверхность, торцевые соединения под приварку встык и VCR^®

Каким образом клапаны ALD решают сложные проблемы

원자층 증착(ALD) 밸브 카탈로그

구성 재질, 압력 및 온도 등급, 옵션, 액세서리를 포함한 자세한 제품 정보를 찾을 수 있습니다.

超高純度用バルブ原子層プロセス用

■ サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能／■ 流量係数（Cv 値）：0.27 から1.7 まで／■ 最高使用温度：200°C（ALD20 の場合）／■ オプション：電気式インジケーター、光学式ポジション・センサーなど／■ 超高純度用途に適した316L VIM-VAR ステンレス鋼製ボディ／■ エンド・コネクション・タイプ：集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、VCR ® メタル・ガスケット式面シール継手

ダウンロードお気に入りに追加する