text.skipToContent text.skipToNavigation
原子層蒸着(ALD)用バルブ

Swagelok®原子層蒸着(ALD)用バルブ

Swagelok超高純度用ALD(原子層蒸着)用バルブは、非常に優れたサイクル・ライフ、高速作動、流量、高温対応性、極めて高い清浄度を備えており、最先端の半導体製造アプリケーションにおいて正確なプリカーサーの供給を実現し、デバイスの歩留まりを最大化します。

ALD用バルブについて問い合わせる

ALD用バルブを世界に送り出してからも、スウェージロックは半導体製造装置メーカーやファブと緊密に連携し、ALDの供給制御の向上に取り組んできました。これにより急速な技術革新に対応し、開発期間を短縮し、ますます複雑化するプロセスにおいてデバイスの歩留まりを向上できるよう支援しています。Swagelok®ALD用バルブは、製品ラインアップ全体を通じて、過酷なアプリケーションにおいても安定したパフォーマンスを維持するのに欠かせない精度、一貫性、クレンリネス(清浄度)、優れたサイクル・ライフを備えています。

厳密な流量制御、高速作動、高温安定性を実現するSwagelok ALD用バルブは、供給のばらつきを低減し、ウェハ歩留まりの向上および開発サイクルの短縮を支援することで、次世代技術をより迅速に市場に投入できるようサポートします。

超高純度用ALD用バルブの特徴:

  • サイクル・ライフが非常に優れ、高速で開閉可能
  • 流量係数(Cv値):0.27~1.7
  • 最高250°Cまでの高温環境に対応(高温モデルのアクチュエーターの場合)
  • 現場での流量調節が可能なバルブもございます
  • オプション:電気式インジケーター、光学式ポジション・センサーなど
  • 超高純度用途に適した316L VIM-VARステンレス鋼製および合金22製ボディ
  • エンド・コネクション・タイプ:集積モデル、チューブ突き合わせ溶接、VCR®メタル・ガスケット式面シール継手
  • シングル・ボディに加え、積層造形(AM)マニホールドもございます

適切なALD用バルブを使用してプロセス制御を改善する

Categorías de Válvulas de Deposición de Capas Atómicas (ALD)

Válvulas de Diafragma de Ultra Alta Pureza, Serie ALD7A

Válvulas de Diafragma de Ultra Alta Pureza, Serie ALD7A

La válvula de diafragma Swagelok® ALD7 de ultra alta pureza ofrece la precisión y consistencia necesarias para maximizar la producción de chips en las aplicaciones de fabricación de semiconductores.

Válvulas de Diafragma de Ultra Alta Pureza, Serie ALD7C

Válvulas de Diafragma de Ultra Alta Pureza, Serie ALD7C

Swagelok ALD7C ultrahigh-purity diaphragm valves deliver performance, speed, and reliability in the most advanced ALD applications.

Válvulas de Diafragma de Ultra Alta Pureza, Series ALD3 y ALD6

Válvulas de Diafragma de Ultra Alta Pureza, Series ALD3 y ALD6

Las válvulas de diafragma ALD3 y ALD6 ofrecen una larga vida útil, una actuación de alta velocidad y un gran rendimiento en aplicaciones de deposición de capas atómicas.
Válvulas de Ultra Alta Pureza para Aplicaciones de Alto Caudal, Serie ALD20

Válvulas de Ultra Alta Pureza para Aplicaciones de Alto Caudal, Serie ALD20

Tecnología avanzada de deposición de capas atómicas con caudales 2-3 veces superiores a los de otras válvulas ALD gracias a la válvula ALD20 de ultra alta pureza.

原子層蒸着(ALD)用バルブのカタログ

構成部品とその材質、使用圧力、使用温度、オプション、アクセサリーなど、製品に関する詳細情報につきましては、以下の資料をご参照ください。

半導体産業向けSwagelok超高純度用バルブ ALD20シリーズのクリーンルームでの組み立て

バルブを最適化することで新しい半導体プリカーサーを導入する

次世代半導体プリカーサーは、製造における新たな課題を突きつけています。最適化されたシステム設計およびALD用バルブ技術を導入することで、常に業界をリードし続けることができます。

詳細はこちら

関連資料/コラム記事

シリコン・ウェハを検査する半導体製造技術者
アプリケーションを最適化し、半導体ファブの収益性を高める

主要な流体システムのアプリケーションをターゲットにすることで、リスクの低減、コストの抑制、ファブの全体的なパフォーマンス向上を実現します。

半導体製造環境において産業用流体システム装置を調整する技術者
現場でのエンジニアリング専門知識を活かしてファブのパフォーマンスをサポートする

ファブの規模拡大や標準化が進む中、フィールド・エンジニアリングを通じて重要な専門知識を提供することで、効率性および一貫性の向上を実現します。

Este proceso puede durar varios minutos. Por favor, tenga paciencia y permanezca en la página.