text.skipToContent text.skipToNavigation
Ultrahochreine Membranventile, Serien ALD3 und ALD6

Swagelok® Ultrahochreine Membranventile für die Atomlagenabscheidung (Serien ALD3 und ALD6)

Die Membranventile der Serien ALD3 und ALD6 von Swagelok werden in Werkzeugen zur Halbleiterfertigung für eine präzise Dosierung bei der Atomlagenabscheidung eingesetzt. Sie zeichnen sich durch äußerst lange Lebensdauer, hohe Stellgeschwindigkeiten und Durchflusskoeffizienten von bis zu 0,62 aus.

Informationen zu ALD-Ventilen anfordern

Die ultrahochreinen Swagelok®Membranventile der Swagelok®Serien ALD3 und ALD6 wurden entwickelt, um Halbleiterherstellern eine zuverlässige Hochgeschwindigkeitsdosierung von Vorläufergasen zu ermöglichen, die für den schichtweisen Aufbau von Mikrochips in Abscheidekammer eingesetzt werden. Diese äußerst leistungsstarken Ventile für ultrahochreine Anwendungen zeichnen sich durch eine extrem lange Lebensdauer, die vollständige Eintauchfähigkeit bei hohen Temperaturen sowie durch ihre Eignung für ultrahochreine Anwendungen aus.

Die Membranen der ALD3- und ALD6-Ventile bestehen aus einer Superlegierung auf Kobaltbasis, die Festigkeit und Korrosionsbeständigkeit gewährleistet. Die Ventilkörper sind für den Einsatz in ultrahochreinen Anwendungen aus Edelstahl 316L VIM-VAR gefertigt. Die Ventilsitze sind aus fluoriertem PFA für den Einsatz unter hochreinen Bedingungen hergestellt, um die Kompatibilität mit zahlreichen Chemikalien und eine herausragende Beständigkeit gegen Aufquellen und Verunreinigung sicherzustellen. Diese Ventile sind für eine normal geschlossene sowie normal offene pneumatische Betätigung konzipiert und für unterschiedliche Installationsanforderungen in verschiedenen Konfigurationen erhältlich.

Wie ALD-Ventile die Halbleiterfertigung verbessern

ALD3- und ALD6-Ventile — Spezifikationen

BetriebsdruckVakuum bis 10,0 bar (145 psig)
Berstdruck>220 bar (3.200 psig)
Betätigungsdruck3,5 bis 6,2 bar (50 bis 90 psig)
Temperatur0 ° bis 200 °C (32 ° bis 392 °F)
Durchflusskoeffizient (Cv)0,27 oder 0,62
KörperwerkstoffeEdelstahl 316L VIM-VAR
MembranwerkstoffSuperlegierung auf Kobaltbasis
EndanschlüsseTyp (Größe): VCR®-Innengewinde mit Metalldichtscheibe (1/4 Zoll bis 1/2 Zoll), VCR-Außengewinde mit Metalldichtscheibe (1/4 Zoll bis 1/2 Zoll), modulare Flächenmontage mit C-Dichtung für hohen Durchfluss (1 1/8 Zoll bis 1 1/2 Zoll)

Sie haben Fragen zu ALD-Ventilen?

Lokalen Experten kontaktieren

Ventile der Serien ALD3 und ALD6—Kataloge

Hier finden Sie ausführliche Produktinformationen zu Werkstoffen, Druckstufen, Auslegungstemperaturen, Optionen und Zubehör.

Die Fluidsystemkomponenten von Swagelok werden aus Werkstoffen gefertigt, die auch den schwierigsten Produktionsumgebungen in der Halbleiterindustrie standhalten.

Verbessern Sie Ihre Halbleiterproduktion durch den Einsatz optimierter Legierungen

Erfahren Sie, wie Halbleiterhersteller ihre Produktionsausbeute und Profitabilität durch Auswahl der passenden Werkstoffe für wichtige Fluidsystemkomponenten langfristig optimieren.

Erfahren Sie mehr über die Werkstoffauswahl

Swagelok Resources Curated for You

Cleanroom assembly of a Swagelok ALD20 UHP valve for semiconductor industry use
One New Valve: Three Reasons It Could Change Semiconductor Manufacturing

Find out how the latest innovation in atomic layer deposition (ALD) valve technology is changing the game for high-tech semiconductor manufacturers.

Mit fast 40 Jahren Erfahrung in der Halbleiterindustrie verfügt Carl White über eine einzigartige Perspektive auf die Entwicklungen und Fortschritte in der Branche.
问答:半导体制造的过去、现在与未来

了解半导体OEM设备商、微芯片制造商与流体系统解决方案提供商之间的协作如何使半导体市场在数十年来能够满足摩尔定律的要求以及未来的发展方向。

Rosendahl Nextrom与世伟洛克合作, 大大提高了运营效率
光纤设备制造商利用定制解决方案提高效率

自 20 世纪 80 年代以来,Rosendahl Nextrom 便与世伟洛克合作推动其业务的发展。了解有关使该公司超越其竞争对手并保持行业领先地位的解决方案的更多信息。

Als Hersteller von Mischungskryostaten setzt Bluefors auf Fluidsystemkomponenten und -lösungen von Swagelok.
Zuverlässige Fluidsystemlösungen für die Wissenschaft

Erfahren Sie mehr darüber, warum sich das finnische Unternehmen Bluefors bei der Herstellung seiner Mischungskryostate für Anwendungen in den Bereichen Quantum-Computing und Experimentalphysik auf die Fluidsystemkomponenten und -lösungen von Swagelok verlässt.

このプロセスには数分間かかる場合があります。このままお待ちください。