
Swagelok® Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)
Dank ihrer äußerst langen Lebensdauer, der sehr schnellen Auslösung, hohen Durchflussraten, der Fähigkeit zur Wärmeimmersion sowie ihrer herausragenden Sauberkeit sorgen die ultrahochreinen Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD) von Swagelok für eine präzise Dosierung und eine maximale Chipausbeute in der modernen Halbleiterfertigung.
Informationen zu ALD-Ventilen anfordernSeit Einführung der ALD-Ventiltechnologie arbeitet Swagelok zusammen mit Kunden aus der Halbleiterfertigung an neuen Lösungen, die mit den sich rasch ändernden Prozessanforderungen auf dem Markt Schritt halten können. Die fortschrittlichen ALD-Ventile überzeugen durch ein äußerst hohes Maß an Präzision, Konsistenz und Sauberkeit sowie eine lange Lebensdauer. ALD-Ventile von Swagelok® unterstützen effiziente Prozesse bei der Chipherstellung und helfen Ihnen, die mit der Atomlagenabscheidung verbundenen Herausforderungen zu meistern.
Vorteile unserer ultrahochreinen ALD-Ventile:
- Äußerst lange Lebensdauer mit hohen Stellgeschwindigkeiten
- Cv-Bereich von 0,27 bis 1,7
- Temperaturbeständig bis 200 °C (392 °F) bei bestimmten Modellen
- Elektronische oder optische Stellungssensoren für Stellantriebe optional verfügbar
- Für ultrahochreine Anwendungen geeignet
- Modulare Flächenmontage, Stumpfschweißfitting und VCR®-Verbindungen
Atomic Layer Deposition (ALD) Valves Categories

Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD3 and ALD6 Series
ALD3 and ALD6 diaphragm valves offer ultrahigh cycle life, high-speed actuation, and strong performance in atomic layer deposition applications.
Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD7 Series
The Swagelok® ALD7 ultrahigh-purity diaphragm valve offers the precision and consistency needed to maximize chip yields in semiconductor manufacturing applications.

Ultrahigh-Purity Valves for High-Flow Applications, ALD20 Series
Advance atomic layer deposition technology with flow rates 2–3x higher than other ALD valves with the ALD20 ultrahigh-purity valve.
ALD-Ventile—Kataloge
Hier finden Sie ausführliche Produktinformationen zu Werkstoffen, Druckstufen, Auslegungstemperaturen, Optionen und Zubehör.
ALD 3, 6, and 7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available

Kleines Ventil mit großer Wirkung: Warum ein neues Ventil die Halbleiterproduktion verändern könnte
Erfahren Sie mehr darüber, wie die neueste Innovation in der ALD-Ventiltechnologie neue Möglichkeiten für Hersteller modernster Halbleiter schafft.
Neue Elemente aus dem Periodensystem in der Halbleiterfertigung nutzenSwagelok-Ressourcen für Sie zusammengestellt

Verbessern Sie Ihre Halbleiterproduktion durch den Einsatz optimierter Legierungen
Erfahren Sie, wie Halbleiterhersteller ihre Produktionsausbeute und Profitabilität durch Auswahl der passenden Werkstoffe für wichtige Fluidsystemkomponenten langfristig optimieren.

Q&A: Entwicklungen und Trends in der Halbleiterherstellung
In diesem Artikel beschäftigen wir uns damit, wie die Zusammenarbeit zwischen Herstellern von Halbleiter-Fertigungsanlagen, Chipproduzenten und Fluidsystemanbietern in der Halbleiterindustrie über Jahrzehnte hinweg dazu beigetragen hat, dass das Mooresche Gesetz eingehalten werden konnte. Zudem werfen wir einen Blick in die Zukunft dieser schnelllebigen Branche.

Hersteller für Glasfaserproduktionssysteme erhöht seine Effizienz durch maßgeschneiderte Lösungen für seine Kunden
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Zuverlässige Fluidsystemlösungen für die Wissenschaft
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