Vannes à membrane très haute pureté Swagelok® pour le procédé de dépôt par couche atomique (série ALD7)
La vanne très haute pureté ALD7 Swagelok possède toutes les caractéristiques – débit élevé et régulier, rapidité d’actionnement, température nominale élevée et grande propreté – nécessaires pour maximiser la production de puces avec des outils de fabrication de semi-conducteurs nouveaux ou existants.
Demander des informations sur les vannes ALD7Мембранный клапан Swagelok® серии ALD7 для атомно-слоевого осаждения (ALD) дает возможность производителям полупроводников и изготовителям микросхем увеличить выход годной продукции, повысить рентабельность, обеспечить постоянство рабочего процесса при высоких температурах, что необходимо для преодоления ряда технических ограничений. Клапаны обеспечивают стабильность характеристик всех клапанов, во всех камерах и в дозировании в течение сверхвысокого циклического срока службы.
Клапан ALD7 от Swagelok:
- Обеспечивает быстрое и точное дозирование в течение миллионов циклов для самых строгих требований, и отличается усовершенствованной технологией со временем отклика всего 5 мс
- Устойчив к воздействию агрессивных газов благодаря корпусу из запатентованной сверхчистой нержавеющей стали Swagelok 316L VIM-VAR
- Возможность нагрева до 200°C при сохранении максимальной рабочей температуры пневматического привода ниже 150°C
- Обеспечивает коэффициент расхода (Cv) до 0,7 (доступны версии с индивидуальной заводской настройкой, обеспечивающие коэффициент расхода 0,5–0,7 Cv)
- Размеры аналогичны стандартным ALD-клапанам Swagelok, при этом оснащен встроенным термоизолятором для максимального использования ограниченного пространства возле реакционной камеры
Клапаны ALD7, увеличенное изображение
Технические характеристики клапана ALD7
| Рабочее давление | От вакуума до 145 psig (10,0 бар ман) |
| Давление разрыва | > 3200 psig (220 бар ман) |
| Давление срабатывания | От 60 до 120 psig (от 4,1 до 8,27 бар ман) |
| Номинальная температура | Стандартный корпус клапана: от 32°F (0°C) до 392°F (200°C) |
| Коэффициент расхода | Стандартный коэффициент расхода 0,7 Cv (устанавливается в заводских условиях) |
| Материалы корпуса | Нерж. сталь 316L VIM-VAR |
| Материал мембраны | Специальный сплав на основе кобальта |
| Торцевые соединения | Тип: Фитинги VCR®, соединение под приварку встык, C-образное модульное уплотнение размером 1,5 дюйма с высоким расходом для монтажа на поверхность |
Есть вопросы о клапанах ALD?
Каталоги клапанов серии ALD7
Получите подробные сведения о продукции, в том числе о материалах изготовления, номинальных параметрах давления и температуры, вариантах исполнения и вспомогательных принадлежностях.
ALD 3, 6, and 7 Diaphragm Valves and ALD20 Bellows: Ultrahigh cycle life, high-speed actuation; Up to 392°F (200°C) w thermal actuators; Electronic actuator position-sensing; ultrahigh-purity applications; High flow capacity, PFA seat, Normally closed pneumatic actuation, Alloy 22 available
Способы решения основных проблем, связанных с обработкой полупроводников методом атомно-слоевого осаждения (ALD) и атомно-слоевого травления (ALE)
Для процесса обработки полупроводников методами атомно-слоевого осаждения (ALD) и атомно-слоевого травления (ALE) характерны определенные проблемы и сложности. Узнайте, как правильный выбор технологических клапанов поможет вам справиться с ними.
Выберите подходящие клапаны для решения задач в области атомно-слоевого осаждения (ALD)Ресурсы Swagelok специально для вас
最適な合金で半導体製造の歩留まりを高める
重要な流体システム部品に適した金属材料を選定することで、エンドからエンドまでの製造の歩留まりを高め、長期的な収益性の向上を図る方法を紹介します。
Q&A：半導体製造の過去・現在・将来
半導体装置メーカー、マイクロデバイス・メーカー、流体システム・ソリューションのプロバイダーが連携することで、数十年間にわたっていかにして半導体市場はムーアの法則の要求に追いつくことができたのでしょうか。これからの展望と併せて紹介します。
光ファイバー装置メーカー、カスタマイズされたソリューションで効率アップを実現
ローゼンダール・ネクストロム社は、1980年代からスウェージロックのサポートを受けて、ビジネスを推進してきました。競合他社とは一線を画し、業界のトップを走り続けるローゼンダール・ネクストロム社のソリューション事例を紹介します。
Zuverlässige Fluidsystemlösungen für die Wissenschaft
Erfahren Sie mehr darüber, warum sich das finnische Unternehmen Bluefors bei der Herstellung seiner Mischungskryostate für Anwendungen in den Bereichen Quantum-Computing und Experimentalphysik auf die Fluidsystemkomponenten und -lösungen von Swagelok verlässt.