Swagelok® Atomic Layer Deposition (ALD) Valves
Swagelok ultrahigh-purity atomic layer deposition (ALD) valves offer the ultrahigh cycle life, high-speed actuation, flow rates, thermal immersibility, and extreme cleanliness needed to enable precise dosing and maximize chip yield in advanced semiconductor manufacturing applications.
Request ALD Valve InformationSince introducing the world to ALD valves, we have worked closely with semiconductor tool OEMs and fabricators to advance ALD dose control—helping customers keep pace with rapid innovation, accelerate development timelines, and improve chip yield in increasingly complex processes. Across our full portfolio, Swagelok® ALD valves deliver the precision, consistency, cleanliness, and ultrahigh cycle life required to maintain stable performance in demanding applications.
Designed for tight flow control, fast actuation, and high-temperature stability, our valves reduce dose variability—supporting higher wafer yield and faster development cycles to help customers bring next-generation technologies to market faster.
Our ALD ultrahigh-purity valves feature:
- Ultrahigh cycle life with high-speed actuation
- Flow coefficients ranging from 0.27 Cv to 1.7 Cv
- Temperature capability up to 482°F (250°C) for specified models
- Field flow adjustability options available
- Electronic or optical actuator position-sensing option
- Suitable for ultrahigh-purity applications with 316L VIM-VAR stainless steel and alloy 22 body options
- Modular surface-mount, tube butt weld, and VCR® end connections available
- Available in single body as well as additive manufactured (AM) manifold offerings
Категории клапанов для атомно-слоевого осаждения (ALD)
Клапаны сверхвысокой степени чистоты для систем с высоким расходом, серия ALD20
Технология атомно-слоевого осаждения с величиной расхода в 2-3 раза выше, чем у других клапанов ALD благодаря клапану сверхвысокой степени чистоты ALD20.
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серии ALD3 и ALD6
Мембранные клапаны ALD3 и ALD6 обеспечивают сверхвысокий циклический срок службы, высокую скорость срабатывания и эффективную работу в системах атомно-слоевого осаждения.
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7A
Мембранные клапаны Swagelok® ALD7 сверхвысокой степени чистоты обеспечивают точность и единообразие, необходимые для максимального увеличения выхода годных кристаллов в полупроводниковой промышленности.
Мембранные клапаны сверхвысокой степени чистоты, серия ALD7C
Swagelok ALD7C ultrahigh-purity diaphragm valves deliver performance, speed, and reliability in the most advanced ALD applications.
Atomic Layer Deposition (ALD) Valve Catalogs
Locate detailed product information, including materials of construction, pressure and temperature ratings, options, and accessories.
Характеристики: Сверхвысокий циклический срок службы с высокой скоростью срабатывания; Cv в диапазоне от 0,27 до 0,62; возможность работы при температуре до 392 °F (200 °C) с термостойкими приводами; вариант исполнения с электронным датчиком положения привода; подходят для применения в сверхчистых системах с корпусом из нержавеющей стали 316L VIM-VAR; торцевые соединения VCR®, под приварку встык и модульные торцевые соединения для монтажа на поверхность.
Deploying New Precursors with Optimized Valves
Next-generation semiconductor precursors pose new challenges in manufacturing. Optimized system design and ALD valve technology can help you stay ahead.
Learn MoreSwagelok Resources Curated for You
Optimizing Critical Applications to Improve Fab Profitability
Targeting key fluid system applications can reduce risk, control costs, and improve overall fab performance.
On-Site Engineering Expertise to Support Fab Performance
As fabs scale and standardize, field engineering provides critical expertise to improve efficiency and consistency.