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Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)

Swagelok®-Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD)

Dank ihrer maximalen Lebensdauer, ihrer sehr schnellen Betätigung, ihrer hohen Durchflussraten, ihrer Fähigkeit zur Wärmeimmersion sowie ihrer herausragenden Sauberkeit sorgen die ultrahochreinen Ventile für die Atomlagenabscheidung (ALD) von Swagelok für eine präzise Dosierung in der modernen Halbleiterfertigung.

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Unsere leistungsfähigen ALD-Ventile sind ein herausragendes Beispiel für die langjährige Vorreiterrolle von Swagelok, wenn es um die schnelle Entwicklung technischer Innovationen für die Halbleiterfertigung geht. Seit Einführung der ALD-Ventiltechnologie arbeitet Swagelok eng mit Kunden aus der Halbleiterfertigung zusammen, um deren Anforderungen zu verstehen. Um mit dem hohen Innovationstempo auf dem Markt Schritt zu halten, entwickelt das Unternehmen auf dieser Grundlage ALD-Ventile, die sich durch ein sehr hohes Maß an Präzision, Konsistenz und Sauberkeit sowie eine lange Lebensdauer auszeichnen. Vorteile unserer ultrahochreinen ALD-Ventile:

  • Maximale Lebensdauer mit sehr schneller Betätigung
  • Cv-Bereich von 0,27 bis 1,7
  • Temperaturbeständig bis 200 °C (392 °F) bei bestimmten Modellen
  • Elektronische oder optische Stellungssensoren für Stellantriebe optional verfügbar
  • Ventilkörper aus 316L VIM-VAR-Edelstahl, geeignet für ultrahochreine Anwendungen
  • Modular für Flächenmontage, Stumpfschweißfitting und VCR®-Verschraubungen

Atomic Layer Deposition (ALD) Valves Categories

Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD3 and ALD6 Series

Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD3 and ALD6 Series

ALD3 and ALD6 diaphragm valves offer ultrahigh cycle life, high-speed actuation, and strong performance in atomic layer deposition applications.
Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD7 Series

Ultrahigh-Purity Diaphragm Valves, ALD7 Series

The Swagelok® ALD7 ultrahigh-purity diaphragm valve offers the precision and consistency needed to maximize chip yields in semiconductor manufacturing applications.

Ultrahigh-Purity Valves for High-Flow Applications, ALD20 Series

Ultrahigh-Purity Valves for High-Flow Applications, ALD20 Series

Advance atomic layer deposition technology with flow rates 2–3x higher than other ALD valves with the ALD20 ultrahigh-purity valve.

Kataloge zu ALD-Ventilen

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Verbessern Sie Ihre Halbleiterproduktion durch den Einsatz optimierter Legierungen

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Mit fast 40 Jahren Erfahrung in der Halbleiterindustrie verfügt Carl White über eine einzigartige Perspektive auf die Entwicklungen und Fortschritte in der Branche.
Q&A: Entwicklungen und Trends in der Halbleiterherstellung

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Zuverlässige Fluidsystemlösungen für die Wissenschaft

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